Occasion AIXTRON 2800 G4 HT #9037227 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT (Hot Target) est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute température conçu pour traiter une grande variété de matériaux différents dans différentes couches. C'est un outil approprié pour la production en laboratoire et en volume, offrant une solution évolutive aux besoins de production tout en fournissant une plate-forme de traitement fiable et rentable. Le réacteur utilise la chambre de procédé AIXTRON AIN 2900 GOTO VUV, qui intègre une conception en forme de cloche à vide. Cette conception offre une large gamme opérationnelle, permettant de traiter une variété de matériaux à des températures allant jusqu'à 950 ° C Ceci est soutenu par un contrôle indépendant de la température du substrat, du suscepteur et de la buse d'injection de gaz, un contrôle précis de la température et une répartition uniforme de la température sur la plaquette. La chambre de procédé est couplée à un système d'injection de gaz réactif AIXTRON CVD et à un logiciel de contrôle de processus AIXTRON, ce qui en fait un outil puissant pour le dépôt de divers matériaux. Le système d'injection de gaz CVD de AIXTRON AIX 2800G4-HT est conçu pour contrôler avec précision les quantités et les types de gaz utilisés dans le processus. Ceci permet d'introduire des concentrations chimiques précises dans l'enceinte, favorisant un processus de dépôt contrôlé et répétable. AIX 2800G4 HT est équipé du système de contrôle AIXTRON PECVD VUV/eV qui permet un contrôle complet du dépôt et du point final du procédé. Le logiciel de contrôle de processus peut être utilisé pour fixer les temps, températures et débits de dépôt, et peut également surveiller l'uniformité de la couche déposée sur la plaquette. Cela permet des résultats de processus cohérents et reproductibles et minimise les erreurs. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT est un réacteur de dépôt idéal pour le traitement de divers matériaux et convient à de multiples applications telles que les transistors à couches minces et les cellules solaires. Il est également capable de réaliser des procédés de dépôt en tandem, permettant de déposer plusieurs couches en un seul cycle de traitement, ce qui augmente le débit et l'efficacité.