Occasion AIXTRON 2800 G4 HT #9233664 à vendre en France

AIXTRON 2800 G4 HT est un réacteur conçu spécifiquement pour des applications de dépôt à haute température telles que la production d'oxydes et de nitrures, ou la croissance de nanomatériaux. Cette technologie de pointe peut être utilisée pour le dépôt de semi-conducteurs, la passivation à base d'oxyde et la croissance ou cristallisation d'oxyde. Il fonctionne en délivrant une dose précise et contrôlée de matière première dans une chambre à vide fermée. Les matériaux se déposent sur des cibles situées dans la chambre, l'un des deux mécanismes de production. Le réacteur AIXTRON 2800G4 HT a une construction unique basée sur plusieurs composants facilement disponibles. Les composants de base sont les plaques de chauffage et de refroidissement, le suscepteur, le système de distribution de gaz (GDS) et le collimateur. Le suscepteur chauffable à quatre zones est capable de chauffer jusqu'à 2500 ° C et est conçu pour promouvoir des températures homogènes dans toute la zone de l'échantillon. La conception du collimateur permet de minimiser la contamination en optimisant la distribution du gaz et en réduisant la recombinaison des ions précurseurs dans le système. 2800 G4 HT utilise la technique de source de plasma à distance, ou RPS, pour le dépôt. Ce procédé consiste à utiliser des gaz ionisés pour créer un plasma pour déposer le matériau. Ce procédé est très efficace, avec une production de particules très faible, et donne aux utilisateurs un contrôle précis sur la vitesse de dépôt et l'épaisseur du film. Ce réacteur utilise également un système de gaz en cycle fermé pour s'assurer qu'aucun gaz n'est perdu ou contaminé pendant le processus de dépôt. Outre les taux de dépôt élevés et le contrôle précis des procédés qu'offre le 2800G4 HT, ce réacteur dispose également de capacités exceptionnelles de manutention des gaz. L'utilisateur final peut choisir parmi une large sélection de gaz, allant de l'argon au phosphure de silicium, pour différentes étapes ou applications du procédé. Cela permet aux utilisateurs de maximiser l'efficacité de leurs processus, tout en minimisant les déchets et en maximisant la production. AIXTRON 2800 G4 HT est un réacteur très efficace et performant principalement conçu pour les procédés de dépôt à haute température. Il offre un contrôle fiable et précis de la vitesse de dépôt et de l'épaisseur du film, possède des capacités exceptionnelles de manutention du gaz et fonctionne avec une variété de gaz. Toutes ces caractéristiques en font une solution idéale pour toute application nécessitant des procédés de dépôt à haute température.