Occasion AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285 à vendre en France

AIXTRON AIX 200/4 RF est un réacteur procédé spécialement conçu pour la production de couches minces quasi nanométriques. Ce réacteur a été largement utilisé dans l'industrie pour produire une grande variété de matériaux tels que les métaux, les semi-conducteurs et d'autres technologies pour les couches minces. Il présente une configuration à 3 axes comprenant une plate-forme d'électrode, un plan de substrat séparé et une chambre de réaction. La plate-forme d'électrodes en AIXTRON AIX 200/4 RF dispose d'une source RF avec des capacités de balayage de fréquence. Cela permet d'augmenter le débit et d'améliorer l'uniformité des produits. En outre, l'électrodement peut être facilement ajusté en fréquence et en puissance pour optimiser le processus d'émission du plasma. Le plan du substrat est également réglable, ce qui permet aux utilisateurs de manipuler la position du substrat dans la chambre de réaction. Le réacteur AIXTRON AIX 200/4 RF peut également être programmé pour accueillir une variété de configurations. Avec une température de travail maximale de 1600 ° C, cette chambre peut être utilisée pour des procédés tels que le dépôt de pulvérisateurs, le collage de plaquettes, la croissance de couches minces et la planarisation. En outre, ce réacteur est équipé d'un pyromètre optique de forte puissance pour le contrôle de la température. Ceci permet aux utilisateurs d'atteindre une croissance précise et homogène des couches minces. AIXTRON AIX 200/4 RF est également compatible avec une gamme de gaz de fonctionnement. Il s'agit notamment d'argon, de krypton, d'azote et d'oxygène. En tant que tel, le réacteur peut être adapté à une variété de besoins, permettant des conditions de réaction optimales et une excellente qualité de film. Ce réacteur est également équipé d'un boîtier qui est conçu avec un système d'aération spécial pour assurer un contrôle supérieur de la température, de la pression et de la tension. En plus de sa flexibilité de fonctionnement, AIXTRON AIX 200/4 RF est conçu pour être facile à entretenir et peut être facilement surveillé et dépanné. Avec son système de contrôle numérique et de diagnostic avancé, ce réacteur est capable de fournir un retour en temps réel sur ses performances. En outre, ce réacteur dispose d'un système de mémoire intégré qui stocke jusqu'à 99 recettes de processus prédéterminées, permettant aux utilisateurs de rappeler et de reprendre rapidement le processus souhaité. Dans l'ensemble, le réacteur AIXTRON AIX 200/4RF offre une combinaison idéale de flexibilité, de puissance et de fiabilité. Avec ses modes de fonctionnement programmables et ses capacités complètes de surveillance et de diagnostic, ce réacteur permet aux utilisateurs de produire avec succès des couches minces quasi nanométriques avec précision et précision dans une gamme d'applications industrielles.