Occasion AIXTRON AIX 200 #9359469 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 200
ID: 9359469
MOCVD System, 2" RF Coil heater With FILMETRICS in-situ reflectometry system GaN and Water-cooled quartz reactor With inner quartz liner, 2" SiC Coated graphite susceptor: GaN, AlN, InGaN, AlGaN Gas foil rotation MO sources: (2) TMGa, TEGa, TMIn, TMAl, Cp2Mg (6 MO Channels) (3) Gas precursor lines and NH3 H2 and N2 Carrier gases Spare parts included.
AIXTRON AIX 200 est un équipement de dépôt par lots multi-wafer conçu pour être utilisé pour la croissance de couches de matériaux cristallins de qualité supérieure sur divers substrats. Ce système est capable de produire des couches de haute résolution et de haute qualité jusqu'à 200 mm de diamètre. Il est conçu pour déposer du matériel sur jusqu'à huit substrats en petits lots, ce qui en fait un choix idéal pour le prototypage et la recherche. AIX 200 dispose d'une seule unité de pulvérisation magnétron plane avec des sources cibles standard de silicium, permettant la croissance de matériaux tels que le silicium, l'oxyde de silicium et le nitrure de silicium. Il offre un haut degré d'automatisation et de facilité d'utilisation, permettant un contrôle précis des paramètres de dépôt des couches tels que l'épaisseur, la structure des grains et l'uniformité de la topographie. La machine est également équipée d'un moniteur optique multi-longueurs d'onde et d'un outil pH/densité/mesure thermique, permettant à l'utilisateur de surveiller la qualité des couches tout au long du processus de dépôt. AIXTRON AIX 200 est équipé d'un certain nombre de systèmes de commande, y compris une alimentation en courant continu (courant continu), polarisation en courant continu, et des systèmes de chauffage/refroidissement. Ceci permet un contrôle précis de la température, assurant une excellente uniformité des couches et une qualité constante de la croissance des couches. AIX 200 dispose également d'un contrôle de pression avancé, permettant aux utilisateurs de réguler l'afflux de gaz pendant le dépôt et d'obtenir un contrôle précis de la réaction souhaitée. AIXTRON AIX 200 dispose également d'un certain nombre de caractéristiques de sécurité, assurant le fonctionnement sûr de l'actif. Un certain nombre de dispositifs de sécurité externes sont inclus, tels que les scellés anti-explosion, ainsi qu'un ensemble d'outils intégrés conçus pour surveiller, contrôler et sécuriser le modèle. En outre, AIX 200 dispose d'un équipement de surveillance intégré conçu pour assurer un environnement sûr pour l'exploitation du personnel. Dans l'ensemble, AIXTRON AIX 200 offre une solution fiable et économique pour la croissance de couches de matériaux cristallins de qualité supérieure sur une variété de substrats. Il est capable de produire des couches de haute résolution et de haute qualité jusqu'à 200 mm de diamètre, ce qui le rend idéal pour le prototypage et la recherche. Il est également équipé d'un certain nombre de dispositifs de sécurité, assurant un environnement sûr pour le fonctionnement du personnel.
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