Occasion AIXTRON AIX 2000 #151220 à vendre en France

AIXTRON AIX 2000 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui est maintenant utilisé dans un certain nombre de laboratoires de fabrication de semi-conducteurs et de recherche pour la recherche et le développement de haute performance. Ce réacteur est basé sur un concept de cloche dynamiquement équilibré et dispose d'une conception de paroi triple froide unique qui s'est avérée très efficace pour réduire la production de particules. En outre, cet équipement est équipé d'un système de contrôle avancé, permettant une plus grande précision lors de processus tels que le graphène, GaAs MEMS, et CVD dépôt de diamants. AIX 2000 est également conçu pour permettre une longue durée de vie efficace avec un minimum d'entretien requis. Il dispose d'une grande chambre à tube en quartz, faite de matériaux optimisés pour le dépôt de semi-conducteurs, ce qui contribue à assurer une qualité stable et répétable des résultats dans une large gamme de conditions de processus. La température du réacteur peut être réglée automatiquement en fonction de l'application, et l'utilisation d'une tête de chauffage indépendante permet de régler simultanément le débit de gaz, la pression de traitement et la température de la plaquette. En outre, cette unité est également équipée d'un certain nombre de dispositifs de sécurité destinés à minimiser les risques de dangers potentiels. Par exemple, AIXTRON AIX 2000 adopte des technologies de surveillance et de contrôle à distance pour garantir des paramètres de sécurité appropriés dans la chambre du réacteur. Il dispose également d'une machine de décompression spécialement conçue qui libère la surpression de la chambre. Les technologies de détection et de contrôle contribuent également à maintenir des niveaux de traitement optimaux en tout temps. En plus de son excellence technologique, AIX 2000 offre à l'utilisateur une multitude de fonctionnalités pratiques. Ses débits d'alimentation automatiques intégrés simplifient le chargement et le déchargement des plaquettes, et l'outil RFID intégré permet une identification rapide des plaquettes avant le début d'un processus. L'outil de purification automatisée des gaz contribue à assurer le plus haut niveau de propreté dans la chambre, tandis que les algorithmes de contrôle IA auto-apprentissage aident à optimiser à la fois la vitesse et l'uniformité. Au total, AIXTRON AIX 2000 est un réacteur CVD avancé qui offre aux utilisateurs le meilleur des deux mondes : un contrôle inégalé du processus, avec des résultats supérieurs. Grâce aux caractéristiques avancées et aux performances élevées de ce modèle, il est maintenant utilisé pour la recherche et la fabrication de semi-conducteurs dans de nombreux laboratoires du monde entier.