Occasion AIXTRON AIX 2000 #9376992 à vendre en France

Le réacteur AIXTRON AIX 2000 est un équipement avancé de dépôt chimique en phase vapeur qui est utilisé pour la croissance de couches minces. C'est un système de four à tube horizontal à chambre unique qui utilise des réactions à basse température pour déposer des couches minces sur un substrat. AIX 2000 dispose d'un tube à quartz intégré, ainsi que d'éléments chauffants internes et externes. AIXTRON AIX 2000 est équipé d'une porte étanche pneumatiquement, qui permet aux gaz de procédé d'entrer dans le tube du four évacué et la physique du procédé empêche l'infiltration de l'air ambiant. AIX 2000 dispose d'une multitude de fonctions de contrôle des procédés, qui lui permettent d'être très adaptable pour de nombreuses applications de dépôt. Il contient une unité de contrôle automatisé intégrée qui peut contrôler avec précision la vitesse et la température de dépôt à l'intérieur du tube du four. Il utilise également une machine de gestion du gaz qui permet un contrôle indépendant de la composition et du débit du gaz, ainsi qu'un contrôle de pression et de surveillance. AIXTRON AIX 2000 est conçu pour un traitement très contrôlable, reproductible et fiable des dépôts en couches minces. Il dispose d'un outil de chauffage à deux zones qui permet de chauffer des surfaces d'échantillons et de substrats pour des réactions uniformes de dépôt à basse température. Il fournit également un environnement réactionnel à basse température qui élimine les dommages au substrat ou aux échantillons lors du cyclage thermique. La chambre de procédés d'AIX 2000 dispose d'un actif intégré de gestion du gaz et d'un modèle de refroidissement avancé. Cela permet une variété d'applications en couches minces de haute qualité avec une vitesse de dépôt précise et contrôlable. Le réacteur AIXTRON AIX 2000 dispose d'un équipement optique intégré qui permet à l'opérateur de suivre la progression de la croissance et de surveiller la qualité des dépôts. Le réacteur AIX 2000 est un outil efficace et économique pour le dépôt de couches minces d'oxyde métallique optiquement actif. Il peut être utilisé pour divers types de projets de recherche liés aux couches minces, tels que la fabrication de LED, la fabrication de cellules solaires, les dispositifs optiques, les cellules photovoltaïques et les films optoélectroniques. En outre, le réacteur AIXTRON AIX 2000 est équipé d'une variété de fonctions de contrôle de processus, y compris le contrôle de la pression, le contrôle de la température, le contrôle de la composition du gaz et le contrôle du débit de gaz. Dans l'ensemble, le réacteur AIX 2000 est un outil fiable et rentable pour le dépôt d'une variété de couches minces de haute qualité. Il offre une variété de fonctions avancées de contrôle des procédés et un système intégré de contrôle des gaz pour réduire considérablement le risque de contamination des films. De plus, il dispose d'une unité de refroidissement avancée et d'une machine optique intégrée pour contrôler la qualité et l'homogénéité du dépôt du film.