Occasion AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L #293651622 à vendre en France
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AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L est une solution d'équipement hybride (HT) très polyvalente offrant aux utilisateurs une combinaison unique d'un excellent matériel et d'un logiciel sophistiqué. Le système peut être utilisé pour divers procédés d'épitaxie des semi-conducteurs, y compris le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Avec sa conception avancée, l'AIX 2400 G3 CT-L est conçu pour une fiabilité accrue et des performances de productivité améliorées. AIX 2400 G3 HT-L est un univers éprouvé pour tous les matériaux semi-conducteurs III-V, germanium de silicium et semi-conducteurs composés ainsi que le silicium. Sa grande homogénéité et ses performances de débit améliorées le rendent idéal pour les exigences actuelles en matière d'épitaxie des semi-conducteurs. L'unité supporte également des dépôts à des taux de dépôt élevés et des ascenseurs et remplacements répétés de plaquettes de substrat. AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L est équipé d'une machine de commande sophistiquée basée sur l'IA qui permet aux utilisateurs de configurer une variété de séquences répétables et programmables pour contrôler les paramètres du processus. Ainsi que la capacité de fonctionner en mode continu et en mode pas à pas. Ce modèle hybride traite une variété de matériaux tels que des semi-conducteurs III-V, du silicium germanium et des matériaux semi-conducteurs composés ainsi que du silicium. AIX 2400 G3 HT-L comprend un support multisource unique qui permet jusqu'à 6 sources qui peuvent être contrôlées dans une séquence précise et pas à pas. Cela permet en outre d'accélérer les temps de production des dispositifs et d'améliorer l'uniformité au niveau des plaquettes. La version de l'outil propose également une unité de traitement thermique rapide (RTP) intégrée pour le recuit thermique rapide du matériau semi-conducteur. En outre, AIXTRON AIX 2400 G3 HT-L supporte la métrologie inline et ex-situ de pointe. Les sondes de métrologie in situ sont efficaces pour déterminer la qualité du dépôt du film, son épaisseur, sa cristallinité et sa rugosité de surface. Cela permet un contrôle élevé des processus, une uniformité et des performances de débit accrues. AIX 2400 G3 HT-L est le choix optimal pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés et est une excellente alternative aux systèmes existants. Il offre des opérations fiables et rapides, un contrôle efficace des processus et une excellente qualité des processus.
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