Occasion AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352601 à vendre en France

AIXTRON AIX 2400 G3 HT est un réacteur avancé de dépôt chimique thermique en phase vapeur (CVD) qui a été conçu spécifiquement pour la production de dispositifs semi-conducteurs à haut rendement. C'est un système très avancé capable de processus de dépôt étroitement contrôlés et uniformes avec une qualité de film supérieure. AIXTRON AIX 2400 G3/HT dispose d'un grand espace de processus qui peut accueillir simultanément jusqu'à quatre plaquettes de 4 ". La chambre a été conçue pour faciliter l'uniformité sur les plaquettes déposées avec une circulation efficace des gaz et une isolation thermique optimale. La sortie d'AIX 2400 G3 HT est extrêmement uniforme avec un haut degré de reproductibilité sur plusieurs plaquettes. AIX 2400 G3/HT est équipé d'un puissant système de contrôle adaptatif des chauffages (HACS) pour un contrôle précis de la température dans toute la chambre. Cette caractéristique assure l'uniformité des conditions de dépôt ainsi que la sélectivité azote/oxygène (N/O) stable sur la surface de la plaquette. Elle garantit également que les températures restent minimales pour un processus de dépôt cohérent. AIXTRON AIX 2400 G3 HT utilise des techniques avancées de contrôle des processus pour surveiller et réguler l'ensemble du processus. Cela inclut des capacités de rétroaction qui répondent aux changements de paramètres en temps réel pour un contrôle précis. Ces techniques sont combinées avec des algorithmes logiciels intelligents et des outils de vérification puissants pour des résultats très fiables et reproductibles. AIXTRON AIX 2400 G3/HT dispose d'une option de chauffage multi-sources pour une flexibilité supérieure. Cela permet de choisir soit une source unique, soit une installation de chauffage multi-sources, en fonction de la sortie souhaitée. Cette fonctionnalité améliore la capacité du système à produire des films de qualité constante tout en permettant à l'utilisateur de personnaliser le processus en fonction de ses besoins spécifiques. Le procédé CVD thermique activé par AIX 2400 G3 HT est extrêmement efficace et flexible, permettant de déposer une large gamme de matériaux. Cela comprend des matériaux semi-conducteurs III-V tels que l'arséniure de gallium (GaAs) et le nitrure de gallium (GaN) ainsi que des matériaux oxydes tels que l'oxyde de gallium (Ga2O3). Cela donne aux utilisateurs la flexibilité nécessaire pour adapter leur appareil à leur objectif spécifique. En résumé, AIX 2400 G3/HT est un réacteur CVD thermique très avancé et fiable qui est conçu pour le dépôt efficace et de haute qualité d'une grande variété de matériaux. Il dispose d'un HACS puissant pour un contrôle optimal de la température, un contrôle précis des processus et un chauffage multi-sources pour une flexibilité supérieure. En conséquence, il produit des films de haute qualité, hautement reproductibles avec uniformité sur plusieurs plaquettes.