Occasion AIXTRON AIX 2400 G3 HT #9352630 à vendre en France

AIXTRON AIX 2400 G3 HT est un équipement de réacteur à haut débit conçu pour des applications industrielles de semi-conducteurs telles que celles des industries de l'électronique et des énergies renouvelables. Sa conception très avancée offre une uniformité à haute température dans toute la chambre et une conception modulaire pour un entretien facile. Ce système de réacteur à dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) offre les caractéristiques suivantes : Injection de gaz à haut rendement : AIXTRON AIX 2400 G3/HT utilise une unité d'injection de gaz avancée pour introduire rapidement et précisément des matières réactives dans la chambre de dépôt. Cette machine permet également d'utiliser simultanément plusieurs substances pour améliorer l'efficacité du dépôt. Rendement à haute température : Ce réacteur est conçu pour traiter des températures allant jusqu'à 1100 ° C, permettant un dépôt plus rapide et plus uniforme de matériaux en couches minces tels que les nanotubes de carbone monobloc, le nitrure de gallium et le nitrure d'hafnium. Gestion optimale des dopants : AIX 2400 G3 HT offre des profils de pression et de température uniformes, qui permettent une gestion précise des dopants. Cet outil offre également une gamme de sources dopantes, conduisant à une efficacité accrue et des rendements plus élevés. Ensemble d'accessoires robustes : AIX 2400 G3/HT est livré avec une gamme de composants et consommables, tels que composants d'échappement, obturateurs, creusets, lames, mandrins et pompes. Il est ainsi facile pour les clients de construire un processus de dépôt efficace et adapté à leurs besoins. Conception modulaire pour la maintenance : AIXTRON AIX 2400 G3 HT adopte une conception modulaire pour un entretien facile et des mises à niveau. Cela améliore également la mise à niveau des actifs et contribue à réduire les temps d'arrêt. Ce modèle avancé de réacteur industriel d'AIXTRON est la solution idéale pour les entreprises à la recherche d'un moyen fiable et efficace de déposer des films minces et d'autres matériaux à grande échelle. Il offre une grande homogénéité, une injection efficace de gaz, une gestion optimale des dopants et une gamme de composants et consommables. C'est donc le choix idéal pour les semi-conducteurs, les énergies renouvelables et d'autres industries qui nécessitent des processus de dépôt à haut débit.