Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #189322 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un équipement de réacteur éprouvé en production conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) de matériaux semi-conducteurs à base de III-V. Le système est conçu pour des performances de dépôt optimales et est capable d'atteindre des taux de croissance ultra-élevés. AIXTRON AIX 2800G4-HT peut fonctionner dans l'atmosphère et à haute pression, ce qui permet un choix optimal des conditions de croissance en fonction de la structure cristalline et des propriétés des matériaux recherchés. AIX 2800G4 HT se compose d'une chambre de réaction reliée à une unité de distribution de gaz, d'une alimentation électrique et d'un contrôleur de processus logé dans un cryostat à haute température. La chambre de réaction est conçue pour établir un gradient thermique optimal entre les matériaux sources et les substrats pour la qualité du matériau désiré et l'uniformité du procédé. La géométrie de la chambre de réaction est configurée pour assurer un temps de séjour suffisant des matériaux précurseurs vaporisés, évitant la nucléation des points froids et améliorant la qualité des matériaux. AIXTRON AIX 2800G4 HT utilise une machine à double gaz innovante qui permet le traitement de deux matériaux sources différents ou de deux mélanges de gaz différents pour des conditions de processus différentes. L'outil de distribution de gaz peut supporter des flux de gaz porteurs contrôlés, ainsi qu'une injection pulsée ou continue de gaz réactifs pour la formation du matériau désiré. Le contrôle précis du débit de gaz permet également le dépôt de matière à des taux de dépôt très élevés avec la possibilité de deux ordres de grandeur au maximum supérieurs au réacteur standard. AIX 2800G4-HT est également équipé d'une fenêtre à quartz haute température pour la surveillance in situ des matériaux déposés. La fenêtre est rehaussée d'un revêtement antireflet basse pression, permettant d'améliorer les propriétés optiques du matériau déposé. AIX 2800 G4 HT contient également un actif avancé d'alimentation électrique, qui est spécifiquement conçu pour le fonctionnement efficace du processus de dépôt. En outre, AIXTRON AIX 2800 G 4 HT est équipé d'un contrôleur de processus puissant, qui permet un réglage précis des paramètres de processus pendant le fonctionnement. Le contrôleur de processus est capable d'enregistrer et de stocker des paramètres de processus en temps réel, assurant des résultats de dépôt reproductibles et fiables. Le contrôleur de processus fournit également une interface utilisateur graphique intuitive (interface graphique), avec des fonctionnalités telles que la capacité d'interface alarmante et distante. AIX 2800 G 4 HT a été optimisé pour le dépôt de matériaux III-V de haute qualité, ce qui en fait un excellent choix pour les applications de dépôt à l'échelle industrielle. L'équipement précis de livraison de gaz du modèle, la fenêtre à quartz haute température, l'alimentation électrique efficace et le contrôleur de processus puissant assurent un dépôt fiable et répétable des matériaux désirés. AIXTRON AIX 2800 G4 HT est idéal pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques et de puissance III-V.