Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #293758235 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique (APCVD) à simple tranche horizontale. Il est conçu pour la recherche et la R&D dans les applications des semi-conducteurs et des composés, y compris la croissance des matériaux des transistors à couches minces et les diodes laser. Il bénéficie d'une température et d'une homogénéité ultra-élevées, d'un débit élevé, d'un faible coût et d'une flexibilité de processus extrême. AIXTRON AIX 2800G4-HT est un réacteur en wafer de 8 pouces, généralement utilisé pour des applications semi-conductrices. Il utilise la technologie exclusive de dépôt à six buses (SDT) AIXTRON pour permettre une uniformité de température exceptionnellement élevée dans toute la chambre de 8 pouces. Le réacteur AIX 2800G4 HT est alimenté par deux chauffages de 1000 watts montés horizontalement. La plage de température est réglable de 4500 à 8500 degrés Celsius, avec une puissance de polarisation réglable jusqu'à 12.5kW. Il dispose d'une large gamme de réglages et de caractéristiques uniques telles que le dépôt à géométrie variable, la distance wafer-to-heater variable, la fréquence de polarisation variable et le cycle d'utilisation, et le contrôle automatique du plasma. AIXTRON a également développé un régulateur automatique de débit de gaz, qui assure un débit de gaz stable et précis pendant les processus de dépôt. Le réacteur AIXTRON AIX 2800G4 HT est équipé d'un certain nombre de capteurs avancés, dont un capteur inertiel à quartz supérieur et inférieur et un thermocouple. Ces capteurs mesurent la température et la pression, assurant un contrôle en boucle fermée de l'atmosphère du réacteur. Le système dispose également d'une vanne de gaz automatisée et d'un système de spectroscopie optique des émissions pour la surveillance des processus. Le réacteur AIXTRON AIX 2800 G 4 HT est conçu pour la flexibilité. Sa plate-forme d'accès libre peut facilement répondre à différentes exigences en matière de matériaux sources et de traitement. Il fournit également un recuit post-dépôt avancé, qui permet des traitements post-processus sur mesure et l'ingénierie de surface. Une plaque chauffante anti-volatilité est incluse qui empêche les composés évaporants indésirables d'entrer dans la chambre. Enfin, le réacteur AIX 2800 G4 HT est certifié UL- et CE et est facile à installer et à exploiter.