Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9226196 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G4 HT
ID: 9226196
Taille de la plaquette: 2"-4"
Style Vintage: 2010
MOCVD System, 2"-4" GaN Base In-situ tool ES-A70 Dry pump Size: 11"x4" Manuals Gases: Gas / Source / Push NH3_1 / 23000 / 500 NH3_2 / 23000 / 500 SiH4_l / 50 / 100 SiH4_2 / - / - TMGa / 1000 / 1000 TMAI / 500 / 500 Cp2Mg / 1000 / 500 TMIn / 1000 / 500 TEGa / 1000 / 500 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à haute température qui utilise la technologie de traitement thermique rapide (RTP) et de chauffage multi-zones. Cette technologie de pointe est conçue pour déposer des couches minces sur des substrats de manière répétable et fiable. Le RTP permet un chauffage efficace et uniforme du substrat et de la chambre du réacteur en utilisant plusieurs éléments chauffants et une variété de gaz. AIXTRON AIX 2800G4-HT offre un faible régime de traitement des défauts avec une bonne uniformité thermique et un bon contrôle, idéal pour des applications telles que III-V et Silicon Photonics. Le réacteur AIX 2800G4 HT est une plate-forme hautement personnalisable, pouvant être configurée pour des conditions de processus spécifiques, telles que la température, la pression et la vitesse d'injection. Sa conception de qualité de production utilise un chauffage multi-zones distribué avec contrôle thermique indépendant sur l'ensemble du substrat. Cette configuration permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt, des revêtements de surface uniformes et des propriétés des couches minces. Le réacteur AIX 2800 G4 HT utilise des précurseurs améliorés pour créer des couches monocristallines avec une excellente couverture de surface. Ce réacteur supporte également le contrôle des procédés en boucle fermée, permettant le dépôt automatisé et contrôlé des matériaux désirés sur des substrats. La grande sélectivité de ce réacteur garantit des films et des caractéristiques propres, avec une excellente planéité de surface et une formation réduite de bourrelets. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT dispose également d'une grande stabilité de processus, précision et répétabilité. Une puissance RF variable permet un contrôle précis de la vitesse de dépôt, tandis qu'un système robuste de manutention des plaquettes assure une manutention douce et un transfert sécurisé des substrats des plaquettes de la cassette à la chambre. AIXTRON AIX 2800G4 HT est la solution ultime pour les dépôts et revêtements au niveau de l'industrie. Ses fonctionnalités avancées, associées à la personnalisation, offrent une fiabilité et des résultats de qualité inégalés pour les applications en couches minces.
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