Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9248637 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur à haut débit pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). C'est un choix attrayant pour les chercheurs à la recherche d'un équipement CVD très efficace et précis. Le réacteur est conçu pour une utilisation simple et facile, et est équipé de caractéristiques de sécurité essentielles le rendant sûr pour le fonctionnement. Il dispose également de suscepteurs gravés à l'oxyde d'aluminium, d'une surveillance à distance des paramètres et d'un système automatisé de verrouillage de charge adapté à un fonctionnement continu. AIXTRON AIX 2800G4-HT est conçu pour produire une large gamme de substrats. Il a une surface d'exploitation relativement importante de 12 « x 12 », ce qui le rend apte à des opérations de production à grande échelle. L'unité contient également un fond en céramique et un réglage de température indépendant pour chaque suscepteur. Ceci permet un taux de dépôt plus élevé, un meilleur contrôle de la préparation du film et une répartition uniforme des matériaux. Le réacteur est en outre équipé d'une machine de transfert rapide de plaquettes pour le chargement et la consolidation fréquents des pièces. Le processus de transfert se fait dans l'environnement ambiant et est destiné à être exempt de poussière. Cela permet d'améliorer la qualité des dépôts et de contrôler définitivement les conditions du procédé. En outre, AIX 2800G4 HT contient un outil de livraison de gaz très efficace garni de diverses options de bouteilles à bulles et de régulateurs de débit pour une manipulation facile et sûre des matériaux réactifs de gaz. AIX 2800G4-HT est un réacteur CVD puissant et précis. Ses chambres isolées et sa construction robuste offrent un excellent contrôle de la température. L'outil de verrouillage de charge automatisé permet des opérations rapides et continues, et sa large gamme d'options d'alimentation à partir de 210-220V le rend adapté à une gamme polyvalente d'applications. Il est équipé de caractéristiques technologiques telles qu'une bonne homogénéité de température et un modèle de distribution de gaz à haut rendement, ce qui en fait un choix idéal pour une production rapide et précise de couches minces et de nano-structures.