Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9256336 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD). C'est un équipement de dépôt qui utilise une source chimique, comme des précurseurs métalliques/organiques, pour créer des films et des structures nanométriques. Le système est conçu pour la fabrication de matériaux hétérogènes et homogènes, tels que cristaux semi-conducteurs, couches minces, nanoparticules et nanostructures connexes. AIXTRON AIX 2800G4-HT utilise la haute température pour créer des films de haute qualité et uniformes. AIX 2800G4 HT est une unité de dépôt à haut débit et à haute température. Il est équipé d'une chambre en quartz pouvant accueillir une plaquette de 4 pouces et une plaquette de 8 pouces. Cette machine fournit une variété de procédés de dépôt tels que MOCVD à basse pression (LP-MOCVD), MOCVD à pression atmosphérique (AP-MOCVD) et dépôt de fluide supercritique (SCF). Il est également capable de manipuler des débits de matière jusqu'à 25nm. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT est conçu avec un outil de contrôle de gaz réactif intégré. Cet actif fournit une large gamme de débit de gaz, de régulation de température et de régulation de pression pour une variété de films et de substrats. Ce modèle est également équipé d'un large éventail de capacités de processus pour contrôler les paramètres clés du processus de dépôt tels que la température de réaction, la vitesse de propagation et la vitesse de dépôt. En outre, AIX 2800G4-HT est conçu avec une option pour la surveillance et le contrôle des processus. Son équipement intégré permet de surveiller en temps réel les différents aspects du processus de dépôt tels que l'état du dépôt, le débit de gaz, la température du substrat et l'épaisseur du film. AIXTRON AIX 2800G4 HT est également équipé d'une bibliothèque de recettes, qui peut être utilisé pour stocker et rappeler les recettes de dépôt pour le fonctionnement de processus répétable. Dans l'ensemble, AIX 2800 G4 HT est un système polyvalent qui offre une production conviviale, de haute qualité et à haut rendement d'appareils optoélectroniques, d'appareils électroniques et de nanostructures connexes. C'est une unité fiable qui répond aux normes de l'industrie en matière de qualité, d'uniformité et de débit des films, aidant les chercheurs et les fabricants à créer des matériaux qui peuvent être utilisés pour un large éventail d'applications.