Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9262094 à vendre en France
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Vendu
ID: 9262094
Style Vintage: 2010
MOCVD System
Type: GaN
Capacity: 6"x6" / 4"x11" / 2"x24"
9 Channels chamber coil
Hydride line: NH3, (2) Dopant
Purifier: H2, N2, NH3
Pumps:
DOR SH-110 Pump
EBARA ESA70 Pump
Susceptor dimension: 520 mm D x 19 mm T
H2 Purifier (In line type)
TERATECH TPH-LP-500S (100S)
Gas: Hydrogen
Process methods: Line purifier
Flow rate(Nm³/hr): 10, 30, 50, 75, 100, 150, 300
Impurities has been removed: H2, O2, H2O, CO, CO2
2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur de dépôt très avancé conçu pour des applications de recherche et développement dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'une conception unique qui combine un meilleur contrôle de la croissance du film avec une meilleure répétabilité du processus, ce qui améliore le débit du processus et le rendement du dispositif. AIXTRON AIX 2800G4-HT utilise une combinaison de principes de conception pour optimiser la performance du réacteur. Il présente un fort facteur d'utilisation des sources, qui fournit une intensité de source élevée et encourage la recombinaison efficace des espèces, ainsi qu'une chambre peu visible pour améliorer le débit de gaz et le dépôt uniforme. Le réacteur dispose également d'un étage de plaquettes à vitesse contrôlée pour une répétabilité élevée et un recouvrement fiable de plaquettes à plaquettes. AIX 2800G4 HT est équipé des technologies de dépôt les plus récentes, y compris le dépôt d'ions réactifs à sources multiples, le dépôt indépendant de substrat, le revêtement hors axe et l'évaporation en champ thermique à double cible. Ces technologies permettent la recherche et le développement dans des domaines tels que les circuits intégrés 3D, l'intégration à très grande échelle, les semi-conducteurs composés, les revêtements optiques et la métallisation du cuivre. AIX 2800 G 4 HT dispose de capacités avancées de contrôle des processus, permettant une inspection rapide et l'ajustement des paramètres de dépôt pendant la croissance. Ce contrôle est réalisé grâce à une combinaison sophistiquée d'algorithmes de journalisation et d'accord, qui garantissent que les paramètres des noyaux et des couches restent optimisés pour le processus particulier. AIX 2800G4-HT fournit un mouvement de substrat maximum pour des processus plus rapides, ainsi qu'un environnement complètement fermé pour une meilleure sécurité. Une interface utilisateur intuitive permet une configuration et une surveillance des processus faciles, et le système est compatible avec tous les logiciels de gestion de fab de semi-conducteur de pointe. Dans l'ensemble, AIX 2800 G4 HT est un outil de dépôt puissant et polyvalent, offrant aux utilisateurs un contrôle précis de la croissance des films et de la répétabilité des processus. En tant que tel, il est idéal pour expérimenter les dernières technologies de semi-conducteurs.
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