Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9305775 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur (MOCVD) métallique à haute température conçu pour la production de films cristallins de matériaux semi-conducteurs III-V et II-VI. AIXTRON AIX 2800G4-HT comprend une version dénudée de l'AIX 2800 G4 avec un équipement sous vide considérablement réduit, des parois de chambre de réaction isolées et une capacité de température plus élevée. Cette configuration rend AIX 2800G4 HT adapté à la croissance de matériaux qui exigent l'utilisation de températures plus élevées et avec un coût réduit par rapport à l'AIX 2800 G4 complet. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT dispose d'une chambre de réaction verticale, qui est conçue pour être chauffée jusqu'à des températures maximales de travail de 850 ° C Cette chambre est maintenue à des niveaux de vide ultra-élevés avec une combinaison optimisée de turbomachine, pompe de diffusion, et pompes de soutien. La vitesse maximale de pompage atteinte par ce système est supérieure à celle prévue dans la norme AIX 2800 G4. La chambre de procédé comprend également une vanne de laminage chauffée pour améliorer le contrôle de la température du procédé, des zones de chauffage séparées pour le carrousel de la plaquette, et la possibilité d'ajouter des éléments de chauffage supplémentaires sur les éléments existants. AIX 2800G4-HT peut utiliser des gaz de purge avancés standards et personnalisés pour créer une gamme de conditions de réaction, permettant à ses utilisateurs de développer des films de haute qualité pour une variété d'applications d'appareils. Cette unité supporte également l'utilisation de nombreuses tailles de substrat, de 2 pouces à 8 pouces, pour permettre la croissance de différents types de films. AIXTRON AIX 2800G4 HT comprend également une machine d'instrumentation numérique avec une gamme de différentes commandes telles que Gas Manager, scène X-Y, puissance de chauffage et vitesse de dépôt. Cet outil est conçu pour permettre aux chercheurs d'avoir accès à un contrôle complet des processus, à l'acquisition de données et à la surveillance. Dans l'ensemble, AIX 2800 G 4 HT est un réacteur MOCVD robuste et à haute température offrant diverses options de contrôle de la température et des fonctionnalités de procédé avancées pour permettre le dépôt de films de haute qualité. Sa géométrie de chambre simplifiée et son atout sous vide réduit en font une solution particulièrement économique pour les processus à haute température.