Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 HT #9386939 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 HT est un réacteur de dépôt spécialement conçu pour permettre une séquence de procédés d'épitaxie et de dépôt de films. Il a une configuration de lampe linéaire multizone à entraînement direct avec une grande efficacité et une grande homogénéité d'éclairage. Il est équipé d'obturateurs haute précision à basse température avec un temps d'ouverture de l'obturateur de seulement 0,3 secs qui permettent de commuter facilement le taux de croissance et les paramètres de processus. AIXTRON AIX 2800G4-HT dispose de deux conduites de gaz pour la distribution d'hydrogène, une pour les réactifs et une pour les gaz porteurs. Il fournit une gamme de réactifs pour assurer la croissance de haute qualité de différents types de films minces. Avec son contrôleur thermique de pointe pour une régulation précise de la température du procédé, AIX 2800G4 HT assure une uniformité et un contrôle maximum du procédé. Ce réacteur de dépôt offre un climat de fonctionnement sûr et facile à utiliser tout en assurant une sécurité maximale pour l'utilisateur. Il est équipé de systèmes intégrés de surveillance visuelle du processus de dépôt en temps réel dans toute la chambre du réacteur. AIXTRON AIX 2800 G 4 HT dispose également d'un mécanisme d'arrêt à distance à triple verrouillage, garantissant les normes de sécurité les plus élevées. AIX 2800 G 4 HT a été conçu pour assurer une précision maximale dans les couches minces de dépôt. Il dispose d'un système avancé de surveillance de la température arrière pour permettre le dépôt de films de haute qualité même à des températures élevées. Il est également livré avec un spectromètre d'émission optique ultra-sensible, qui permet une rétroaction précise de la chambre de dépôt à haute fréquence, ce qui conduit à un contrôle supérieur du taux de croissance. AIXTRON AIX 2800G4 HT est en outre équipé d'un système de gestion des effluents économique, ce qui permet de réduire les coûts possibles par rapport à tout autre réacteur de dépôt. Ce réacteur peut être utilisé pour le dépôt de couches minces complexes de haute qualité avec une homogénéité de composition précise. Il est conçu pour fournir à l'utilisateur des résultats fiables et reproductibles, ce qui en fait l'un des meilleurs réacteurs de dépôt disponibles aujourd'hui.