Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 IC #9256420 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G4 IC
ID: 9256420
Style Vintage: 2012
MOCVD System 2012 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 IC est un équipement de réacteur de pointe conçu pour une production rentable et à haut volume de semi-conducteurs et de nanomatériaux. Utilisant la technologie avancée d'AIXTRON MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), ce système est capable de créer des structures et des films semi-conducteurs complexes de haute précision avec un haut degré de contrôle. AIX 2800 G4 IC offre une excellente uniformité de croissance, répétabilité, et faible coût de possession pour une variété d'objectifs de production à haut volume. Il a une taille maximale de plaquette de 450 mm et un maximum de 12 chambres de processus indépendantes, ce qui le rend idéal pour les processus de production automatisés. Il est également conçu pour des exigences minimales de maintenance, avec des conditions environnementales propres pendant l'exploitation pour une meilleure répétabilité du processus. La technologie MOCPD (Metal Organic Vapor Deposition) de l'unité utilise des impulsions courtes de gaz précurseurs métalliques pour créer des revêtements conformes. Cela permet un haut degré d'uniformité et de répétabilité des films nanométriques sur différents substrats, tels que Si, GaAs, GaInAs, et d'autres alliages. De plus, la machine dispose d'un contrôle dynamique de la pression, d'une carte de contrôle multifonctions et d'un outil de manutention entièrement automatisé. L'actif offre une gamme de capacités de processus, y compris le recuit roulant, l'épitaxie, CVD métalorganique, et le dépôt physique en phase vapeur. De plus, son PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) permet la passivation superficielle de Si ainsi que des couches diélectriques. AIXTRON AIX 2800 G4 IC est également capable de produire des dispositifs semi-conducteurs de pointe tels que des structures LED GaN et GaAs MEMS. Le modèle de réacteur AIX 2800 G4 IC offre une polyvalence, une homogénéité et une répétabilité exceptionnelles pour une production économique à haut volume de dispositifs semi-conducteurs avancés. Ses capacités MOCPD, PECVD et d'autres processus permettent aux clients de créer des appareils complexes rapidement et avec précision avec des exigences minimales de maintenance. Cela en fait un choix idéal pour toute organisation à la recherche d'une technologie de pointe pour la production de semi-conducteurs haute vitesse.
Il n'y a pas encore de critiques