Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 TM #9381792 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 TM est un réacteur avancé conçu pour la production de matériaux semi-conducteurs composés. Cette machine haut de gamme est utilisée dans la recherche et le développement de procédés innovants pour la production de nitrure de gallium (GaN) et de matériaux connexes, et est la plateforme leader mondial pour les applications de phosphure d'indium (InP). AIX 2800 G4 TM a une conception modulaire qui comprend quatre modules de processus indépendants. Il s'agit d'un module de prétraitement des substrats, d'un module Cruiser High-Flow III, d'un module de chauffage des pièces et d'un module de concentricité et d'uniformité réglable des coaxiaux. Le module de prétraitement du substrat assure un chauffage uniforme du substrat jusqu'à 600 ° C et permet le prérecuit des substrats pour assurer une formation optimale du film. Le module Cruiser High-Flow III permet une grande uniformité et une capacité de traitement rapide. Ce module est conçu pour gérer et transférer avec précision les plaquettes. Le module Concentricité et Uniformité Réglable de Coater assure une régulation précise de l'épaisseur du film sur plusieurs étapes de processus. Ce module est capable de réaliser un revêtement en couche mince fiable et répétable dans des débits de gaz élevés. L'AIX 2800 G4 dispose d'un certain nombre de fonctions de contrôle de processus, telles qu'une interface utilisateur en temps réel, qui aide à optimiser le processus de dépôt. Il offre également un contrôle de la température et de la pression, ainsi qu'une automatisation du processus. L'AIX 2800 G4 est équipé de dispositifs de sécurité, qui comprend une protection en court-circuit et un contrôle de la température, ce qui en fait l'un des réacteurs les plus sûrs du marché. L'AIX 2800 G4 est conçu pour assurer la stabilité et la fiabilité dans la production de matériaux complexes avec précision et répétabilité. Il est optimisé pour de multiples procédés, allant de la production de matériaux composés III-V au dépôt chimique en phase vapeur à basse température (MOCVD). L'AIX 2800 G4 offre des configurations de substrat flexibles et une gamme de capacités, associées à des technologies de pointe et des mises à niveau, et est idéal pour répondre aux besoins de la production industrielle.