Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 #9229944 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G4
ID: 9229944
Taille de la plaquette: 4"-6"
Style Vintage: 2008
Epitaxial cluster system, 4"-6" Process: SiC-Epitaxy Gases: C3H8, SiH4, H2 & GMS Prepared for Chlorine Chamber Spare parts Accessories: RF Generator Scrubber Heater Power supply: 380 V, 63 A, 50 Hz, 3 Phase CE Marked 2008 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G4 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu pour le développement, la production et la recherche de dispositifs semi-conducteurs. L'équipement est idéal pour produire des matériaux et des dispositifs de haute qualité dans des applications industrielles et scientifiques exigeantes telles que l'électronique imprimée, les matériaux avancés et les nanomatériaux. AIXTRON AIX2800G4 dispose d'une chambre de procédé à tête de douche à paroi froide de 10 zones qui mesure 667mm de diamètre et 890mm de hauteur. La chambre de procédé est capable de loger des substrats de plus grande taille jusqu'à 450 × 450 mm. La chambre est bien isolée et a une pression de conception de 2 mbar, assurant une répétabilité élevée du processus. Le système est également équipé d'un régulateur de température in situ avancé, qui offre stabilité et précision à +/-1 ° C de la valeur de consigne. AIX 2800G4 est alimenté par le logiciel de contrôle des processus AIXTRON PRECISION+™, qui fournit aux utilisateurs une interface intuitive et une capacité avancée de contrôle et d'optimisation des processus. Le logiciel PRECISION+™ permet aux utilisateurs d'accéder aux recettes de processus de n'importe où dans le monde, les processus de contrôle à distance de n'importe quel appareil compatible avec le Web, et configurer le processus fonctionne en temps réel. Il dispose également d'une puissante unité d'enregistrement des données qui fournit aux utilisateurs une analyse complète des processus et surveille les performances de la machine sur le long terme. Le réacteur AIXTRON AIX 2800 G 4 dispose de la technologie de dépôt multi-sources PDP- MC™ pour améliorer le débit des procédés et l'homogénéité des films. L'outil est également équipé de la technologie Turbo- ColdWall™ pour une répartition uniforme de la température, une faible contrainte du film et une meilleure stabilité du procédé. Il dispose également d'un actif de chargement et de déchargement puissant et automatisé, qui contribue à améliorer la productivité et à réduire les temps d'arrêt. Dans l'ensemble, le réacteur CVD AIX 2800 G4 de qualité recherche est un modèle à haute performance qui offre une stabilité et une uniformité de procédé exceptionnelles. L'utilisation de technologies de pointe associées à l'interface utilisateur utile et au logiciel de contrôle des processus le rend idéal pour produire des films de haute qualité dans des applications industrielles et scientifiques difficiles.
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