Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 #9394717 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 est un réacteur à basse pression de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) qui aide à faciliter le processus de création de couches minces utilisées dans la production de divers substrats avancés. Ce réacteur polyvalent permet le dépôt de divers matériaux tels que le silicium polycristallin et les nanomatériaux, tout en procurant un certain nombre d'avantages aux utilisateurs, notamment un faible budget thermique, un taux de dépôt accru et un fonctionnement plus sûr. AIXTRON AIX2800G4 est composé d'une chambre de réaction à température contrôlée, ainsi que d'un obturateur, d'un générateur de plasma et de cassettes planaires. La chambre de réaction contrôlée en température est typiquement composée d'un dissipateur thermique en graphite, d'un bouclier thermique en céramique, d'un suscepteur et d'une enveloppe en quartz fondue en silice à deux zones. Un actionneur vertical peut être installé pour le positionnement manuel du substrat et permet d'utiliser différents substrats. L'obturateur est commandé par un entraínement à vis de précision, et sert à réguler le processus de dépôt des matériaux. Le générateur de plasma fournit l'énergie nécessaire à la chimisorption des réactifs, et est conçu pour fournir du plasma très localisé. Les cassettes planes fournissent des porteurs de différents substrats sans avoir à changer de suscepteur. Afin d'assurer un fonctionnement sûr et une production efficace, AIX 2800G4 comprend des systèmes de sécurité tels que des capteurs PIR et des capteurs de pression. Les capteurs PIR détectent tout rayonnement fort, tandis que les capteurs de pression sont utilisés pour contrôler la pression à l'intérieur du réacteur, et pour alerter l'utilisateur lorsqu'il n'est plus dans la limite opérationnelle. AIXTRON AIX 2800G4 possède également de nombreuses fonctionnalités conviviales, telles que les interfaces système automatique, et l'interface opérateur écran tactile, où les utilisateurs peuvent accéder à des informations telles que les paramètres de processus et les conditions de configuration du réacteur. AIXTRON AIX 2800 G 4 est un réacteur polyvalent et fiable qui permet de déposer une variété de matériaux pour une variété de substrats avancés. Il offre aux utilisateurs un faible budget thermique, un taux de dépôt accru et une sécurité accrue avec les systèmes de sécurité et des fonctionnalités conviviales. AIX 2800 G 4 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur à basse pression idéal pour un large éventail d'applications.