Occasion AIXTRON AIX 2800 G4 #9412483 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G4 est un réacteur à dépôt pulsé pulsé ultra-court à haute puissance et polyvalent conçu pour diverses applications en couches minces. AIXTRON AIX2800G4 est équipé d'une technologie de pointe et de composants qui permettent des énergies impulsionnelles intenses et des vitesses de répétition rapides pour le dépôt rapide de matériaux en couches minces dans diverses conditions. AIX 2800G4 peut fonctionner en mode impulsions courtes et en mode permittivité et être configuré pour une variété de tailles de substrat et de géométries. AIX 2800 G4 dispose d'un générateur hyperfréquence de forte puissance et d'une puissance de crête commutable de 400 kW avec une durée d'impulsion de 1 à 20 microsecondes et un taux de répétition pouvant atteindre 30 kHz. Un élément chauffant à haute température permet aux substrats d'atteindre une température maximale jusqu'à 1100 ° C Cette température élevée est importante pour obtenir une épaisseur et une homogénéité optimales du film. AIX2800G4 offre une large gamme de fonctions de contrôle de processus, telles que le contrôle de la pression et de la température, le contrôle du flux et le contrôle en boucle ouverte. Le réacteur a construit des systèmes qui compensent les aberrations causées par les variations de la pression ambiante et de la température du substrat. AIXTRON AIX 2800 G 4 dispose également d'un système de rétroaction intégré pour assurer la stabilité de la température et de la pression du substrat pendant le processus de dépôt d'impulsions. AIXTRON AIX 2800G4 dispose de deux chambres de processus principales. Chaque chambre est équipée de deux antennes planes pour permettre des processus tels que le transfert de couches, la gravure plasma, la gravure RIE, le dépôt et le pelliculage. Le support de substrat est conçu pour accueillir un large éventail de tailles et de géométries de substrat. AIX 2800 G4 offre également un ordinateur de bord avec navigation conviviale et contrôle de processus en temps réel. Le réacteur peut être exploité à distance avec des logiciels installés sur le système de contrôle qui permet le contrôle automatique du cycle de processus et le fonctionnement. En outre, il supporte un système d'acquisition de données avec des capacités de traitement d'image. AIXTRON AIX 2800 G4 comprend des accessoires tels que des systèmes de serrage et de transport, des entrées de gaz, des tubes de prélèvement de gaz et des conduites de fuite. AIXTRON AIX2800G4 est capable de fonctionner dans une variété de configurations et de conditions idéales pour des procédés tels que le dépôt en couche atomique (ALD), le dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD).