Occasion AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9222508 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G5 HT
ID: 9222508
Style Vintage: 2011
MOCVD System GaN Chember: 56x2"/ 8x6" Temperature monitor: Photrix / EPI TT Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 MO Source: TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2 Main body RF Generator: 1210mm(L) x 800mm(W) x 2300mm(H) Main pump: EBARA ESA80W-HDF Pump: (2) Scroll pumps Monitor: Photrix LWL Luxtron Monitor: EpiTT x GS x 405nm Wiring: 4 Wire + Ground Power: 400/230VAC, 3-Ph 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT est un réacteur à haut débit à épitaxie en phase vapeur métalorganique à haut volume (MOVPE). Il est conçu pour la croissance et la nucléation de matériaux semi-conducteurs composés III-V, tels que l'arséniure de gallium et l'arséniure d'indium gallium, qui sont utilisés dans la production de composants pour des dispositifs optoélectroniques tels que les LED et les cellules solaires. AIXTRON AIX 2800G5 HT est un équipement unifié combinant la conception avancée de réacteurs, matériel riche en fonctionnalités, et logiciel de contrôle natif, offrant des performances supérieures tout en nécessitant des coûts de maintenance moindres. Il comporte une chambre de réacteur annulaire qui facilite une croissance uniforme du matériau avec une qualité de couche uniforme sur des plaquettes de grande surface. Cinq sources distinctes de précurseurs et de dopants peuvent être contrôlées indépendamment pour optimiser les paramètres de croissance, tandis que les chauffages intégrés, les systèmes d'alimentation en gaz et les régulateurs de pression permettent un ajustement précis des débits. Le système comprend également des alimentations électriques, une soufflante d'échappement et une unité de refroidissement. AIX 2800 G5 HT offre une machine de chauffage avancée, conçue pour établir une répartition uniforme de la température à l'intérieur de la chambre de rotation. Il fournit une régulation très précise de la température avec des taux de rampe réglables, assurant que même les grandes plaquettes ont des températures parfaitement homogènes. Son contrôle de procédé assure des couches épitaxiales de haute qualité pour des structures épitaxiales complexes à plusieurs hétérojonctions avec des tolérances de couches étroites inférieures à 2 nanomètres. AIX 2800G5 HT offre également une large gamme de fonctionnalités supplémentaires qui améliorent les performances de l'outil. Son atout d'alignement de précision facilite le montage de plaquettes sur le suscepteur de quartz ou de graphite à des angles précis, pour donner une uniformité de couche supérieure. Le modèle dispose également d'un logiciel d'étalonnage avancé, permettant un positionnement précis et reproductible de la plaque d'échantillon. Pour maintenir la propreté à l'intérieur de l'équipement, son système de filtration à haut rendement assure la propreté des précurseurs et des dopants avant leur introduction dans le réacteur. De plus, un obturateur dynamique contribue à réduire la contamination par les gaz précurseurs ou les sous-produits fuités. Dans l'ensemble, AIXTRON AIX 2800 G5 HT est un réacteur à haut débit MOVPE qui est idéal pour la production de composants semi-conducteurs composés III-V à haut volume. Il offre un processus supérieur et un contrôle de couche avec une excellente uniformité, stabilité et répétabilité, le tout dans une unité intuitive et intégrée.
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