Occasion AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9226657 à vendre en France
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Vendu
ID: 9226657
Taille de la plaquette: 2"-6"
Style Vintage: 2011
MOCVD System, 2"-6"
GaN
Chamber: 56 x 2" / 8 x 6"
Temperature monitor: Photrix / EPI TT
Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4
MO Source:
TMGa-1, TMGa-2, TMAI-1, Cp2Mg-l, Cp2Mg- 2, TMIn-1, TMIn-2, TEG-1, TEG-2
Main body
RF Generator: 1210 mm(L) x 800 mm(W) x 2300 mm(H)
Main pump: EBARA ESA80W-HDF
Pump: (2) Scroll pumps
Monitor: Photrix LWL Luxtron
Monitor: EpiTT x GS x 405 nm
Wiring: 4 Wire + Ground
Power: 400 / 230 VAC, 3-Phase
2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT est un réacteur à haute performance de gravure ionique réactive (RIE) conçu pour la gravure précise de substrats à grande échelle. L'AIX 2800 est capable à la fois de gravure basse énergie (LE) et haute énergie (HE), une caractéristique qui lui permet d'offrir un maximum de flexibilité et de précision de processus. L'AIX 2800 est équipé d'un générateur de 13,56 MHz et d'une cavité avec des dispositions pour la commande multi-couches cathode/QCM. Cette configuration améliore l'uniformité du processus de gravure, l'homogénéité des gravures sur la surface de la plaquette et la répétabilité. L'AIX 2800 dispose également de verrous à double charge, d'une pompe à plusieurs étages, d'un système de contrôle de la température de la chambre avec surveillance de la température en temps réel et d'un contrôleur d'asservissement PLC et Schneider Electric intégré. Cet ensemble de fonctionnalités avancées permet le fonctionnement de recettes de gravure multiétages avec une répétabilité et une précision élevées, ainsi qu'une automatisation et un contrôle de processus améliorés. L'AIX 2800 dispose également de la dernière technologie d'analyse in situ des gaz résiduaires. Ce système utilise un spectromètre de masse fixé à la chambre de procédé pour analyser les constituants de l'atmosphère de la chambre afin d'optimiser les performances de gravure pour chaque étape de procédé. Les capacités de gravure polyvalentes de l'AIX 2800, son featureset avancé et sa compatibilité avec une large gamme de substrats en font un outil de gravure idéal pour les installations de production dans les industries des semi-conducteurs, MEMS et LED. C'est un outil efficace et fiable pour minimiser le coût et augmenter le rendement du dispositif dans le processus de fabrication.
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