Occasion AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9241907 à vendre en France

Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.

Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G5 HT
ID: 9241907
Style Vintage: 2011
MOCVD System, 2"-6" GaN Chamber: 56 x 2" / 8 x 6" Temperature monitor: Photrix / EPI TT Hydride lines: NH3-1 / NH3-2 / SiH4 MO Source: TMGa-1 TMGa-2 TMAI-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg- 2 TMIn-1 TMIn-2 TEG-1 TEG-2 RF Generator Main pump: EBARA ESA80W-HDF (2) Scroll pumps Monitor: Photrix LWL Luxtron Monitor: EpiTT x GS x 405 nm Wiring: 4 Wires and ground Power supply: 400 / 230 VAC, 3-Phase 2011 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT est un réacteur semi-conducteur sophistiqué à haut débit et à l'échelle du rouleau (R2R) qui est utilisé pour traiter une variété de matériaux semi-conducteurs pour des applications opto-électroniques, opto-mécaniques et micro-électromécaniques (MEMS). Il est capable de supporter des températures allant de 300C à 1000C et offre une répétabilité et une uniformité de processus élevées sur de grandes surfaces de substrat. Ce réacteur est équipé d'une double source LLAG avec une grande uniformité et une énergie sélectionnable pour répondre aux besoins de processus flexibles. La conception à haute température offre un recuit dopant élevé et moins d'adhérence aux particules. De plus, il supporte le dépôt de film épais à la fois en zone ouverte et fermée. Le réacteur a des applications spéciales qui comprennent le dépôt chimique en phase vapeur métalorganique (MOCVD) et le dépôt de couche atomique (ALD). De plus, la conception modulaire du réacteur facilite grandement les options de débit ou les besoins supplémentaires des stations terminales. AIXTRON AIX 2800G5 HT dispose d'une chambre de réaction à quartz avec uniformité de température jusqu'à 0.3C, ainsi que d'un système de distribution de gaz de procédé à son moniteur de gaz in situ. Cela permet au réacteur de surveiller et de quantifier les gaz de procédé en temps réel. Il est également équipé d'un pont de processus motorisé pour un chargement et un traitement plus efficaces du substrat, ainsi que d'un système d'alignement automatique du substrat embarqué. AIX 2800 G5 HT dispose de capacités de contrôle et d'automatisation avancées qui permettent d'améliorer la fiabilité, la répétabilité et le rendement du processus. Il y a des domaines où AIX 2800G5 HT se distingue en particulier, comme son logiciel de contrôle de processus : THE E-Toolz, qui permet aux clients de réaliser des recettes de processus personnalisées et ad-hoc ainsi que des cartes paramétriques de processus sur leurs propres systèmes plutôt que de s'appuyer sur des fournisseurs de services externes. AIXTRON AIX 2800 G5 HT offre une large capacité de traitement. Il est un chef de file dans plusieurs domaines de processus, tels que les sources liquides, les émetteurs thermiques pour les sources de faisceaux électroniques et d'ions, et les procédés à couches minces contrôlées en surface. Le réacteur est également équipé d'un contrôle de distribution de gaz pour un débit de gaz/vapeur uniforme, de capacités de vide élevées et d'un système de contrôle des dépôts performants. En conclusion, AIXTRON AIX 2800G5 HT est un réacteur de production à haut débit et R2R capable de répondre à un large éventail de plages de température et de besoins de processus. Grâce à sa conception modulaire et à ses capacités avancées de contrôle et d'automatisation des processus, il offre de grandes possibilités d'améliorer la fiabilité, la répétabilité et le rendement. En outre, ses fonctionnalités telles que LE E-Toolz pour les recettes de processus personnalisées et ad-hoc offre aux clients plus de contrôle sur leur traitement.
Il n'y a pas encore de critiques