Occasion AIXTRON AIX 2800 G5 HT #9278265 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
AIX 2800 G5 HT
ID: 9278265
Style Vintage: 2010
MOCVD System GaN Main body RF Generator EBARA ESA80W-HDF Pump (2) Scroll pumps Chamber: 8" x 6" Hydried line: NH3-1, NH2-1, SiH4 Temperature monitors: Photrix LWL luxtron EpiTT x G5 x 405 nm MO Sources: TMGa-1 TMGa-2 TMAl-1 Cp2Mg-1 Cp2Mg-2 TMIn-1 TMIn-2 TEGa-1 TEGa-2 Power supply: 380/230 VAC, 3 Phase, 4 wires+ground 2010 vintage.
AIXTRON AIX 2800 G5 HT est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) conçu spécifiquement pour la fabrication de dispositifs. Ce type de réacteur est utilisé pour réaliser des matériaux et composants de type semi-conducteur et optoélectronique, tels que des plaquettes de silicium, pour divers produits contenant des composants électriques. AIXTRON AIX 2800G5 HT est équipé d'une puissante source d'ions et d'un générateur de plasma innovant, permettant des températures de dépôt allant jusqu'à 1000 ° C dans une variété d'atmosphères de processus. AIX 2800 G5 HT est un équipement de dépôt de plaquettes entières, c'est-à-dire qu'il dépose de la matière sur toute la surface d'une plaquette unique pendant la réaction. Cela le rend idéal pour les applications à petite et grande échelle. De plus, la chambre de réaction du G5 HT est équipée d'un bras robot sans conducteur, assurant un contrôle précis du mouvement de la plaquette par rapport au système de dépôt, permettant l'optimisation de l'homogénéité thermique et de hautes qualités de dépôt. AIX 2800G5 HT est extrêmement efficace et ses capacités de manipulation d'énergie sont inégalées. Il utilise une unité d'écoulement hautement contrôlable et fiable avec une machine de manutention de gaz fiable. L'outil de manutention du gaz est fermé et automatisé, assurant le plus haut niveau d'efficacité et de sécurité dans le traitement de ses matériaux. AIXTRON AIX 2800 G5 HT dispose également de parois de chambre de qualité recherche, offrant une homogénéité inégalée du processus de dépôt. AIXTRON AIX 2800G5 HT est l'une de ses caractéristiques les plus impressionnantes. Ce modèle fournit un chauffage extrêmement précis et cohérent de la plaquette, offrant ainsi un contrôle supérieur de la température et un niveau d'induction d'homogénéité sur la plaquette. Ceci améliore également l'homogénéité des dépôts et évite toute détérioration thermique du matériau du substrat. En outre, son équipement flexible de configuration et de contrôle permet à l'utilisateur d'effectuer des ajustements en temps réel du système de dépôt, assurant le meilleur résultat du processus. Dans l'ensemble, AIX 2800 G5 HT est une unité CVD avancée et fiable, fournissant une solution de fabrication d'appareil rapide et économique. Sa stabilité à long terme, l'efficacité de la machine et une large gamme de procédés en font un choix optimal pour une variété d'applications industrielles, et ses caractéristiques intégrées le rendent adapté aux travaux de recherche.
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