Occasion AIXTRON AIX 2800 G5 #9358478 à vendre en France

AIXTRON AIX 2800 G5 est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) pour la production de semi-conducteurs composés. Le réacteur est conçu pour effectuer un dépôt de précision de couches composées d'épaisseurs jusqu'aux monocouches. Sa conception comprend une chambre de réaction automatisée qui est capable d'environnements haute température et ultra-haute dépression (UHV), ainsi qu'un porte-substrat de cinq pouces, haute température et UHV. Cela permet une production qui répond aux normes de qualité les plus élevées. AIX 2800 G5 est un système entièrement coloré qui utilise une LED exclusive et un système d'imagerie numérique pour surveiller la croissance du film en temps réel. Il a donc un niveau de précision à court terme de 0,005 nm (50 pm) et un niveau de précision à long terme de 0,01 nm (100 pm). La conception permet de régler les pressions de fond jusqu'à 5x10-7 mbar, ainsi que de régler la pression de processus de 8-60 mbar. De plus, la chambre de réaction peut supporter des températures comprises entre 25 et 900 ° C, selon l'application du procédé. AIXTRON AIX 2800 G5 intègre une conception à double obturateur, chaque obturateur étant contrôlé indépendamment. Ceci permet le dépôt de deux matériaux d'une même source dans la même chambre. De plus, le réacteur est capable d'effectuer à la fois un traitement par lots et un traitement continu, selon les exigences de l'application. En termes de sécurité, AIX 2800 G5 est construit avec une enceinte pour protéger contre les matières dangereuses. De plus, des capteurs d'environnement sont présents dans et autour de la chambre de réaction. Ces capteurs surveillent continuellement l'environnement du processus et alertent les opérateurs en cas de changement de paramètre. Cela permet d'assurer un fonctionnement sûr et efficace. Dans l'ensemble, AIXTRON AIX 2800 G5 est un outil puissant pour la production de semi-conducteurs composés. Il est conçu pour le dépôt de précision en combinant le dépôt chimique en phase vapeur métal-organique (MOCVD) avec une conception à double obturateur, permettant d'effectuer des travaux complexes dans une seule chambre. Ce dispositif comporte également une surveillance précise de la croissance du film et des capteurs d'environnement qui assurent la sécurité des opérateurs et des équipements.