Occasion AIXTRON AIX G5 HT #293594749 à vendre en France

AIXTRON AIX G5 HT est un réacteur à haut débit conçu pour augmenter la capacité de production de matériaux semi-conducteurs composés. Le réacteur repose sur la technologie avancée de CVD à paroi chaude, qui permet une production de couches épitaxiées de haute qualité et à haut rendement pour des applications semi-conductrices composées. L'équipement offre plusieurs caractéristiques uniques, telles que des réglages programmables de composition de gaz, un contrôle de débit indépendant pour chaque gaz, et des températures de zone programmables pour personnaliser les conditions de processus. Le réacteur est équipé d'un mandrin chauffant pour le chauffage du substrat, d'une paroi chaude dans la zone de procédé et d'un mécanisme de chargement vertical du four, offrant une plate-forme idéale pour la production répétable et fiable de couches semi-conductrices composées. Le réacteur a été conçu pour se spécialiser dans la production de matériaux tels que AlGaAs, AlInAs et InGaAs, qui nécessitent des recettes de processus complexes avec un ajustement fin de la composition du gaz, des débits de gaz et de la température. Le réacteur AIXTRON AIX G 5 HT est capable de fournir une température de substrat homogène à travers la paroi chaude, ce qui permet de contrôler les paramètres du procédé et d'assurer la répétabilité des résultats du procédé. De plus, l'outil est équipé d'un système de balayage modulaire et d'une unité de reconnaissance avancée des plaquettes, ce qui permet une reconnaissance automatique des plaquettes, ce qui permet de gagner beaucoup de temps dans la commutation entre les recettes de traitement. AIX G5 HT fournit un excellent contrôle de la température dans sa zone de traitement, avec des zones qui peuvent être ajustées à 0,1 ° C La machine offre également un contrôle de haute précision pour un maximum de quatre gaz, permettant des conditions de processus finement ajustées pour la production de composés délicats. Avec un addon de four à tubes en option, AIX G5 HT peut également être utilisé pour l'épitaxie en phase liquide, permettant d'adapter davantage les conditions du procédé aux besoins d'un semi-conducteur composé particulier. AIXTRON AIX G5 HT a été conçu pour des applications à haut volume, répondant aux besoins de la production industrielle de masse. Avec son contrôle des gaz à haute performance, son profil de température homogène et ses fonctions d'automatisation des procédés, AIXTRON AIX G 5 HT est l'outil de choix pour la production à grande échelle de semi-conducteurs composés.