Occasion AIXTRON AIX G5 HT #293690958 à vendre en France
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ID: 293690958
Taille de la plaquette: 6"
Style Vintage: 2016
System, 6"
GaN epitaxy: TMGa, Cp2Mg, TMAl, NH3, Disilane, H2 and N2
2016 vintage.
AIXTRON AIX G5 HT est un réacteur de dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD) haute performance et à haut débit utilisé pour la fabrication de matériaux et dispositifs avancés tels que les semi-conducteurs. Le réacteur utilise des procédés très sophistiqués pour assurer l'exposition correcte de divers matériaux aux composants du plasma et de la chambre du substrat. Domaine d'applications importantes AIXTRON AIX G 5 HT est capable de produire un large éventail de matériaux d'une manière rentable. Elle est bien connue dans l'industrie pour sa grande sélectivité sur différents substrats de matériaux, allant du silicium à des matériaux performants tels que l'arséniure de gallium pour des applications électroniques et optoélectroniques. En outre, des procédés de production et de contrôle des procédés hautement reproductibles permettent un contrôle dimensionnel et structurel accru et l'uniformité des films déposés sur de grandes surfaces. Technologies de procédés programmables G5 HT AIX G5 HT offre une série de technologies de procédés qui sont essentielles au succès de tout dépôt de matériaux. Les sources de dépôt programmables permettent aux utilisateurs de travailler avec diverses espèces réactives, tandis que les systèmes d'alimentation en gaz permettent l'utilisation de gaz porteurs pour l'alimentation des espèces réactives dans la chambre de réaction. De plus, les alimentations de générateurs haute fréquence peuvent générer des formes d'ondes entièrement personnalisées pour augmenter l'adhérence et améliorer l'uniformité des films. Sources de plasma et chauffage des substrats La technologie de haute performance des sources de plasma et de chauffage des substrats en AIX G5 HT permet une production précise des films avec un meilleur contrôle de la composition chimique, structurelle et mécanique des films sur de grandes surfaces. La source de plasma dans le G5 HT est assez puissante pour réaliser des processus de gravure et de dépôt rapides et fiables, qui sont essentiels pour la production de dispositifs semi-conducteurs avancés. Sécurité et conformité réglementaire AIXTRON AIX G5 HT est conçu en pleine conformité avec les règlements de sécurité pertinents, afin d'assurer un fonctionnement sûr et une sécurité optimale pour le personnel d'exploitation. De plus, le réacteur est surpressé et sous pression pour permettre une évacuation rapide des matières et vapeurs dangereuses. Enfin, AIXTRON AIX G 5 HT est conçu pour l'efficacité énergétique et il peut fonctionner en mode semi-scellé pour assurer des temps de processus longs.
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