Occasion AIXTRON AIX G5 HT #9283176 à vendre en France

AIXTRON AIX G5 HT est un outil MOCVD à haut débit pour la production de produits à base de III-V et de silicium. Le réacteur dispose d'une chambre de procédé MOCVD englobante pour une large gamme de tailles de substrat de 1,3 « à 8 » de diamètre. Il utilise un large spectre de matériaux de source III-V et/ou de sources précurseurs de silicium pour permettre la croissance de nombreuses structures de dispositifs opto-électroniques et semi-conducteurs uniques. AIXTRON AIX G 5 HT comprend plusieurs des dernières avancées AIXTRON dans la technologie MOCVD comme le contrôle dynamique de pression, un système de surveillance de processus basé sur laser, RF/contrôle de profil de chambre de chauffage, ainsi que des systèmes automatisés de positionnement et d'échange de plaquettes. Cela garantit le plus haut niveau d'uniformité de wafer-to-wafer, des rendements améliorés des produits, et un contrôle complet des processus. Le réacteur AIX G5 HT est également doté d'un projecteur vertical pour la précision et la productivité. Cette conception verticale permet un meilleur contrôle de la planéité et de l'uniformité de température des plaquettes. Il dispose également d'un système d'alignement/balayage plein champ qui permet un contrôle précis et répétable de la position de la plaquette et un meilleur contrôle de l'uniformité. AIX G 5 HT est conçu pour maximiser le débit et réduire les coûts, et intègre de nombreuses fonctionnalités pour augmenter l'efficacité des processus. Parmi les fonctionnalités disponibles, on peut citer AIXTRON Dynamic Pressure Control (DPC), un système laser de surveillance des processus, le contrôle de profil RF/chambre de chauffage, ainsi que des systèmes automatisés de positionnement et d'échange de plaquettes. AIXTRON AIX G5 HT prend également en charge une vaste gamme de substrats comprenant à la fois des procédés MOCVD monoplace et double face pour les produits à base de III-V et de silicium. Cela permet une plus grande flexibilité dans la conception des produits et des rendements améliorés. Pour répondre à toutes les exigences de contrôle de la qualité et d'efficacité de la production actuelle de dispositifs opto-électroniques et semi-conducteurs, AIXTRON AIX G 5 HT offre des fonctionnalités sophistiquées de contrôle et de surveillance des processus. Ces fonctionnalités vont des recettes de processus standard aux algorithmes de contrôle de processus numériques basés sur la logique plus sophistiqués, et vous pouvez configurer des recettes de processus personnalisées pour une flexibilité maximale pour les conceptions de produits complexes. En conclusion, AIX G5 HT est un réacteur de pointe spécialement conçu pour le traitement MOCVD à haut débit des produits à base de III-V et de silicium. Il intègre les dernières avancées dans la technologie MOCVD pour produire des résultats reproductibles et fiables avec des rendements améliorés. Avec sa conception de suscepteur vertical, le contrôle dynamique de la pression et de nombreuses autres caractéristiques, il est un outil idéal pour la production actuelle de dispositifs opto-électroniques et semi-conducteurs de pointe.