Occasion AIXTRON AIX G5 HT #9283177 à vendre en France

AIXTRON AIX G5 HT est un réacteur à haut débit planétaire à flux continu (HTR) de pointe pour la production de dépôts chimiques en phase vapeur améliorés par plasma hyperfréquence (MPECVD). Il est conçu pour le dépôt rapide de matériaux avec une excellente latitude et sélectivité. Le réacteur est capable de délivrer des débits élevés (jusqu'à 20 plaquettes/min.) avec un contrôle constant de la température et du gaz. AIXTRON AIX G 5 HT a été conçu pour améliorer les opérations de production existantes offrant ainsi aux clients une ligne de production haute précision et haute vitesse avec des rendements fiables et un bon rapport coût-efficacité. AIX G5 HT est un réacteur en acier inoxydable à basse pression, orienté verticalement, avec un toit bombé et un couvercle refroidi à l'eau. L'intérieur de la chambre de réaction est équipé d'un disque planétaire tournant et de deux collecteurs fixes d'entrée de gaz. Le disque est utilisé pour faire tourner des plaquettes individuelles pendant le processus de dépôt. Les entrées de gaz assurent une répartition uniforme des gaz de procédé sur l'ensemble des surfaces de la plaquette, ce qui permet une uniformité et des capacités de débit élevées. AIX G5 HT est couramment mis en œuvre avec la puissance RF ou micro-ondes pour les opérations d'amélioration et de gravure du plasma. La puissance RF est générée par un générateur accordable avec une gamme de puissances de 10 à 350 Watts. Un système de diagnostic avancé assure la surveillance et le contrôle en temps réel de tous les paramètres du processus tels que la puissance, les flux de réactifs, les températures et d'autres propriétés critiques de la phase gazeuse. AIXTRON AIX G5 HT présente de nombreux avantages par rapport aux réacteurs batch traditionnels. Il dispose d'un système intégré de surveillance automatique des plaquettes avec la capacité de détecter les défauts et défauts des plaquettes dans le substrat. Il dispose également d'un système intégré de chauffage du substrat qui permet un contrôle précis de la température du substrat lors du dépôt. En outre, AIXTRON AIX G 5 HT est équipé d'une foule de capteurs et de soupapes pour assurer le contrôle et l'uniformité des processus. AIX G5 HT convient à une grande variété d'applications de dépôt/gravure chimique en phase vapeur, y compris les procédés GaN, GaAs, InP, photovoltaïque et MEMS. Avec une interface utilisateur graphique facile à utiliser, AIX G5 HT peut être facilement intégré dans un environnement de production. La large gamme de paramètres de processus proposée par AIXTRON AIX G5 HT garantit un système de production rentable, flexible, fiable et à haut débit.