Occasion AIXTRON AIX G5+ #293657949 à vendre en France

AIXTRON AIX G5 + est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) à haute performance conçu pour le dépôt de dispositifs tels que les matériaux semi-conducteurs composés III-V, les nanoparticules et les multicouches à couches minces. Construit à partir de composants solides et durables, l'équipement est très fiable et offre un excellent temps de disponibilité et des rendements de processus. Le réacteur AIX G5 + dispose d'une grande chambre fermée pour le dépôt de matériaux, d'un diamètre pouvant atteindre 1,1 mètre et d'une hauteur pouvant atteindre 0,7 mètre. La chambre est entourée d'un environnement contrôlé par la température et purgé à l'oxygène, qui peut être réglé et régulé pour assurer l'environnement optimal du processus. La chambre est scellée et la pression est contrôlée pour protéger les matériaux délicats traités forment une contamination externe. L'intérieur de la chambre est résistant aux hautes températures et dispose d'éléments chauffants haute performance, qui sont équipés de leurs propres régulateurs de température prêts à fonctionner dans une variété de modes de processus - tels que le flux pulsé ou continu - et orientés horizontalement ou verticalement. La chambre est également conçue pour fournir une température uniforme dans tout le matériau en cours de traitement, permettant un dépôt de haute qualité sur de grandes surfaces. Le réacteur AIXTRON AIX G5 + dispose également d'un système de positionnement automatique avancé, qui peut faire tourner les composants utilisés pour le dépôt des matériaux. Cela permet un nombre accru de paramètres utilisés pour les procédés de dépôt, permettant le dépôt de matériaux plus difficiles, tels que ceux nécessitant différentes étapes de métallisation. AIX G5 + est très fiable et offre un excellent temps de disponibilité et des rendements de processus. Son logiciel avancé et son interface utilisateur garantissent un traitement par lots efficace et optimisé, avec des recettes spécifiques aux applications prêtes à être déployées rapidement et avec précision. En outre, l'unité peut être facilement et rapidement entretenue, tandis que le support est disponible rapidement et localement. En conclusion, AIXTRON AIX G5 + est un réacteur fiable et performant, idéal pour le dépôt de divers matériaux composés III-V, multicouches à couches minces et nanoparticules. Sa machine avancée et son interface utilisateur garantissent un entretien facile et un traitement par lots, pour des résultats facilement reproductibles et cohérents. L'outil est très fiable et est conçu pour offrir d'excellents rendements de disponibilité et de processus, ce qui en fait un outil idéal pour déposer des matériaux difficiles.