Occasion AIXTRON CCS 3X2 FT #9218419 à vendre en France

AIXTRON CCS 3X2 FT est un réacteur polyvalent de pointe à dépôt chimique en phase vapeur amélioré (PE-CVD) conçu pour obtenir des couches minces de haute qualité pour diverses applications. Ce réacteur peut créer des couches minces jusqu'à 100 nm d'épaisseur dans un large éventail de matériaux, y compris des oxydes, des nitrures, des diamants et des métaux. Il convient aux procédés nécessitant des taux de dépôt élevés, une grande pureté et une excellente homogénéité. Ce réacteur est doté d'une chambre à vide encapsulée en acier inoxydable de 3X2 pieds avec visionnages, qui peut être utilisée pour suivre l'avancement du processus de dépôt en temps réel. Il est équipé d'une puissante source de plasma très uniforme supportée par le système AutoClamp, ce qui réduit le temps de chargement et de déchargement. Le système AutoClamp fournit également un serrage de substrat précis et répétable qui minimise la génération de particules. Le procédé PE-CVD est également optimisé en appliquant de l'énergie via des cathodes Magnétron ou Filament sur le mélange gazeux, afin de décomposer les précurseurs en espèces réactives et de former des couches minces avec des propriétés de matériau accrues. Le réacteur CCS 3X2 FT utilise du matériel et des logiciels sophistiqués pour contrôler directement les paramètres de dépôt avec facilité. Le logiciel peut maintenir et enregistrer la température, la pression et le taux de dépôt avec des capacités d'enregistrement de données étendues, ainsi que fournir une analyse de données supérieure en temps réel. En outre, il est conforme aux normes SEMI F47-0291, ce qui permet d'assurer les plus hauts niveaux de contrôle des processus, de précision et de répétabilité. Ce réacteur est conçu pour une disponibilité maximale et est équipé de plusieurs fonctionnalités pour améliorer la productivité : Contrôle PLC avancé pour une automatisation complète des procédés, échappement automatique des procédés, contrôle de la température avec contrôle PID et arrêt automatique des gaz, et outils de diagnostic embarqués pour une analyse facile des différents procédés. C'est une solution idéale pour le dépôt de couches minces de petites et grandes tailles, avec un haut niveau de contrôle du procédé et de fiabilité. Ses autres avantages sont les suivants : rapidité des dépôts et temps de cycle, faible consommation d'énergie, production minimale de particules, excellente uniformité, variabilité et personnalisabilité, entretien facile et qualité inégalée des procédés. Ce réacteur flexible et économique est le choix idéal pour les applications industrielles de dépôt en couches minces.