Occasion AIXTRON CCSH 30x2 #9353180 à vendre en France

AIXTRON CCSH 30x2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) utilisé pour le dépôt de couches minces pour diverses applications. Le réacteur utilise une conception bi-horizontale des cylindres, ce qui permet une vitesse de dépôt et une uniformité élevées. Le réacteur supporte également un large éventail de gaz de procédé et de matériaux sources, tels que les silanes pour les couches à base de silicium et les organométalliques pour les autres couches métalliques. CCSH 30x2 est conçu pour assurer une uniformité maximale sur l'ensemble du substrat en utilisant une technologie de coldwall thermique à deux zones. Cette chambre secondaire permet de répartir uniformément les substrats à l'intérieur de la chambre et de minimiser les réactions indésirables entre les matériaux sources et le gaz de procédé. Le réacteur est livré avec deux régulateurs de débit massique in situ pour contrôler avec précision la pression des gaz de procédé. AIXTRON CCSH 30x2 dispose également de capacités de surveillance in situ. Un système de balayage programmable permet un contrôle précis de la température du substrat et un pyromètre optique permet des mesures rapides et précises de la température du substrat. Une fenêtre en quartz dans la chambre permet des mesures optiques du processus de dépôt comme la vitesse de croissance de la couche et la composition de la couche. Dans CCSH 30x2, la chambre de procédé est chauffée à des températures allant jusqu'à 1000 ° C La chambre est remplie d'un gaz de procédé, tel que l'azote ou l'hélium. Les sources modèles, telles que les silanes et les organométalliques, se vaporisent et pénètrent dans la chambre. Le débit de dépôt peut être ajusté en manipulant le débit de gaz de procédé. AIXTRON CCSH 30x2 peut être utilisé en mode lot ou en continu. En mode batch, les substrats sont chargés dans la chambre, le processus commence, et le dépôt est autorisé jusqu'à ce que le programme soit terminé. En mode continu, les substrats sont chargés dans la chambre, et CCSH 30x2 dépose les couches sur le substrat au fur et à mesure de leur passage dans la chambre. Ceci permet un dépôt à haut débit, car le réacteur peut fonctionner en continu sans manipulation manuelle des substrats. Le réacteur AIXTRON CCSH 30x2 est un outil utile pour le dépôt de matériaux à couches minces en raison de sa large gamme de fonctions, son uniformité, son contrôle de température et sa grande taille de substrat. Il offre une excellente plate-forme pour produire des films avec une répétabilité et une précision élevées.