Occasion AIXTRON Crius 31x2" #293587438 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) haut de gamme conçu pour répondre aux exigences les plus exigeantes de la recherche moderne sur les semi-conducteurs et les matériaux. Doté d'une capacité de substrat de grande surface, le Crius 31x2 peut accueillir des plaquettes jusqu'à 200mm de diamètre et jusqu'à deux substrats à la fois. Il prend également en charge des configurations de sources multiples, permettant un large éventail d'applications de recherche, y compris le dépôt chimique en phase vapeur de métaux organiques (MOCVD), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), le dépôt de couche atomique (ALD), et plus encore. Le Crius 31x2 offre un équipement de contrôle de l'atmosphère avancé qui fournit un contrôle précis du processus et une capacité répétable. Ce système permet un réglage précis de la température, de la pression, de la composition du gaz et du débit pour chaque substrat et source avec un contrôle indépendant pour quatre sources au maximum. La conception de double verrouillage à distance permet également des processus multiples ou un échange rapide de substrat. Le Crius 31x2 dispose également d'une gamme de fonctionnalités supplémentaires, comme AIX Software Suite, qui permet l'optimisation des processus à la volée. Le réacteur offre également une interface utilisateur intuitive comprenant un écran tactile haute résolution et un logiciel intuitif. Le Crius 31x2 est conçu pour garantir que tous les processus sont sûrs, fiables et reproductibles. Il offre des caractéristiques de sécurité robustes, y compris la protection contre les températures excessives, la protection contre la pression et la certification ISO 14644 salle blanche. Le Crius 31x2 utilise une unité de chauffage et de refroidissement robuste qui peut ajuster rapidement les températures jusqu'à une plage maximale de 300 ° C La machine dispose également de temps de réponse rapide et de faible dissipation d'énergie thermique pour assurer des profils de température reproductibles et uniformes sur la plaquette. De plus, le Crius 31x2 dispose d'un outil de contrôle plasma intégré qui permet une homogénéité, une répétabilité et des temps de traitement optimisés. En outre, le Crius 31x2 fournit une modularité avancée pour un contrôle efficace de la dilution du procédé, le chauffage et le refroidissement multi-zones, et des mesures précises du débit de gaz ou de gaz vecteur. La modularité comprend également des options pour les processus cycliques, tels que la préchauffage, le dépôt et le refroidissement en intégration avec le flux de programme standard. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur CVD avancé, fiable et reproductible offrant des niveaux élevés de contrôle de processus et de capacité répétable. Il offre de vastes possibilités d'application, des fonctionnalités de sécurité avancées et un atout de contrôle adaptatif qui optimise les temps de processus et la répétabilité.