Occasion AIXTRON Crius 31x2" #293587440 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur avancé à croissance épitaxiale MOCVD développé pour une large gamme d'applications dans la production optoélectronique et semi-conductrice. Ce réacteur est idéal pour la croissance de couches minces hautes performances sur une variété de substrats, permettant un contrôle précis de l'épaisseur, du dopage et de la qualité cristalline. Le Crius 31x2 est équipé d'un réacteur à trois zones à poche divisée unique, délivrant des films de haute qualité avec des distributions dopantes précises sur de grandes surfaces. Le réacteur dispose d'une zone de 31x2 pouces avec un design de poche fractionnée, permettant un contrôle indépendant des températures de croissance dans les deux poches. Chaque poche est équipée de deux charges résistives AC à forte puissance et à réponse rapide, d'une puissance maximale de 3,2 kW et d'une plage d'accord de température de 500 à 1 450 ° C En outre, ce réacteur comporte deux zones à température variable : une zone supérieure utilisée pour préchauffer et former le substrat, et une zone inférieure utilisée pour faire croître les couches épitaxiales. Le Crius 31x2 comprend un ordinateur de contrôle de processus pour le contrôle complet en temps réel des paramètres de contrôle. La réponse rapide des éléments chauffants AC permet un contrôle précis des profils de température et un contrôle précis des concentrations de dopants dans les films. L'ordinateur de contrôle de processus est équipé d'un logiciel avancé pour les recettes détaillées et l'analyse des données. Le réacteur est également équipé d'une configuration de pompe à gaz de pointe avec contrôle automatique de la composition gazeuse pour assurer des films de la plus haute qualité avec des niveaux de dopage précis. AIXTRON offre également des fonctionnalités d'automatisation avancées en option pour minimiser l'intervention de l'opérateur, réduire le temps de configuration et optimiser le taux de croissance. Le système comprend également un système de manutention durable et efficace des plaquettes pour améliorer le chargement, le déchargement et la manutention des substrats. Le Crius 31x2 offre des films épitaxiés de qualité et très uniformes qui peuvent être adaptés à des applications périphériques innovantes. Son contrôle précis de la température et des concentrations de dopants assure des performances optoélectroniques et semi-conductrices exceptionnelles. Les exigences inhérentes à un faible entretien, une longue durée de vie et des résultats supérieurs font d'AIXTRON Crius 31x2 un choix idéal pour la production d'appareils de pointe.