Occasion AIXTRON Crius 31x2 #293587446 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur à trois zones pour la croissance épitaxiale et le dépôt de films semi-conducteurs et d'autres matériaux. AIXTRON CRIUS 31 X 2 est un réacteur à paroi froide horizontale configuré avec trois zones. L'équipement fonctionne avec une configuration unique ou multisource utilisant la puissance RF ou DC. Le réacteur dispose de capacités avancées de contrôle de processus, permettant aux utilisateurs de contrôler avec précision les paramètres de processus. Le Crius 31x2 dispose d'un loadlock et d'une chambre d'entrée à basse température, qui permettent le chargement et le transport des échantillons dans une atmosphère sécuritaire. De plus, la chambre de serrure est équipée d'un four de prétraitement des substrats avant l'introduction. Les sources gauche et droite sont équipées de boucliers mobiles pour le contrôle d'écoulement zone par zone, ce qui permet un contrôle indépendant du flux pour les différents films de matériaux. Le réacteur comprend également une zone de croissance verticale et un porte-substrat semi-conducteur, qui offre un actionnement et un positionnement précis. Le porte-substrat est capable de faire tourner le substrat jusqu'à 360 degrés, ce qui permet un dépôt et une croissance uniformes. Le contrôle de la température est obtenu à l'aide d'un système combiné de chauffage de la paroi chaude et de la paroi froide, qui assure l'uniformité de la température sur tout le support du substrat. De plus, le CRIUS 31 X 2 dispose d'une unité optique embarquée et d'un spectromètre. La machine optique est utilisée pour surveiller le processus de croissance, tandis que le spectromètre peut être utilisé pour analyser la qualité du film et sa bande passante d'énergie. Une gamme de pressions est également disponible dans AIXTRON Crius 31x2, avec des plages comprises entre 30 mTorr et 760 Torr. En termes de sécurité, AIXTRON CRIUS 31 X 2 est livré de série avec des contacts de sécurité manuels et programmables, permettant un fonctionnement sûr de l'outil. En outre, un atout de surveillance à distance est inclus, qui permet l'état en temps réel du modèle pendant le fonctionnement. Cette fonction améliore encore la sécurité de l'équipement, ainsi que la surveillance avancée des processus. En conclusion, le réacteur Crius 31x2 est un puissant système de croissance épitaxiale qui utilise des capacités avancées de contrôle de processus, de verrouillage de charge et de porte-substrat pour assurer un dépôt et une croissance uniformes. Son unité optique avancée et son spectromètre permettent une analyse précise des films et de leurs propriétés. Le réacteur comprend également des dispositifs de sécurité et de surveillance à distance, ce qui renforce encore sa sûreté et sa fiabilité.