Occasion AIXTRON Crius 31x2 #293587447 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur à haute performance à épitaxie en phase vapeur métallique (MOVPE) utilisé pour la croissance de couches épitaxiales de haute qualité de matériaux inorganiques. Il est équipé d'une plate-forme MnPIII de 2 pouces, conçue pour améliorer l'uniformité des couches sur de grandes surfaces. Le système est idéal pour la production de dispositifs nécessitant un contrôle précis de l'épaisseur des couches semi-conductrices sur de grandes surfaces telles que les diodes électroluminescentes (LED) et autres dispositifs électroniques. La productivité efficace et la répétabilité d'AIXTRON CRIUS 31 X 2 bénéficient d'une suite de fonctionnalités complètes. Cela comprend une technologie de collecteur en forme de grille pour une livraison précise du gaz, qui permet un contrôle précis du gaz pour une épaisseur et une uniformité précises de la couche sur une plus grande surface. De plus, deux sources de courant continu linéaires, une source de puissance moyenne fréquence élevée et une bobine magnétique élevée, assurent un contrôle précis et la reproductibilité des conditions de croissance. Le réacteur peut être exploité de manière sûre et stable avec une large gamme de températures et de pressions. La chambre homogène du réacteur est conçue pour assurer un bon contrôle de l'homogénéité lors du dépôt sur de grands substrats avec un contrôle précis de la température sur l'ensemble de la plaquette par cartographie thermique in situ. En outre, le système de chauffage direct du substrat assure une température uniforme de toute la zone du substrat. Crius 31x2 est conçu avec une interface graphique (interface graphique) évoluée et conviviale pour automatiser les tâches manuelles et encombrantes. Il permet également aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster manuellement l'état de la machine pendant le processus de croissance afin d'obtenir des résultats optimaux. L'interface graphique conviviale optimise les recettes de processus et la collecte de données pour une expérimentation rapide et un réglage des processus. CRIUS 31 X 2 est conçu pour être l'un des systèmes les plus fiables et les plus efficaces disponibles pour la fabrication d'appareils sensibles, offrant un contrôle final des processus et des résultats de qualité reproductibles. C'est un système idéal pour les applications industrielles et de recherche, car il fournit un dépôt stabilisé et performant de couches épitaxiales pour divers dispositifs sur de grandes surfaces.