Occasion AIXTRON Crius 31x2 #293587449 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius 31x2
ID: 293587449
Style Vintage: 2008
MOCVD System 2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur conçu pour diverses applications industrielles, y compris la production de semi-conducteurs, la pulvérisation et le dépôt de couches minces, et les procédés de gravure. AIXTRON CRIUS 31 X 2 est équipé d'une technologie de refroidissement innovante, permettant des processus à faible budget thermique. Le réacteur est équipé de deux chambres de traitement indépendantes qui peuvent être exploitées électriquement ou avec des conduites de gaz simples ou doubles pour alimenter plusieurs gaz ou faciliter les processus LPCVD et PECVD. Les chambres de procédés sont enfermées dans une cuve à vide en acier inoxydable, qui est équipée d'une passerelle primaire, d'un équipement à vide à deux étages, d'un système flexible de contrôle des gaz et d'une pompe à diffusion à vitesse variable. En outre, Crius 31x2 est équipé de sa propre unité Advanced Throttle Supervision (ATS) pour contrôler avec précision les processus. Cette machine fournit une rétroaction détaillée sur les températures de la chambre, les températures à l'intérieur des porte-échantillons et la puissance de chauffage et de refroidissement du substrat. CRIUS 31 X 2 a une multitude de fonctionnalités qui en font un choix souhaitable pour de nombreux utilisateurs. Par exemple, il dispose d'un outil de données de masse multi-zones à haute densité innovant qui permet de modifier la zonéconfiguration sur une base Wafer-by-Wafer. La source de plasma réactif dispose d'un atout de trempe intégré et d'un contrôle plus faible qui peut ajuster activement la puissance de la source pour répondre aux exigences des différents processus. AIXTRON Crius 31x2 dispose également d'un scanner d'uniformité, d'une broche de levage programmable et d'un mécanisme d'indexation, ainsi que d'une large gamme de suscepteurs. Dans l'ensemble, AIXTRON CRIUS 31 X 2 est un réacteur fiable et polyvalent. Il a une grande variété de caractéristiques, ce qui le rend adapté à une gamme d'applications et de processus. Sa technologie de refroidissement innovante permet des processus à faible budget thermique, et elle fournit aux utilisateurs des informations détaillées sur la température et la puissance de chauffage et de refroidissement du substrat. Avec ces avantages, Crius 31x2 est un excellent choix pour les procédés de production, de pulvérisation et de gravure.
Il n'y a pas encore de critiques