Occasion AIXTRON Crius 31x2" #293587451 à vendre en France

Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius 31x2"
ID: 293587451
Style Vintage: 2010
MOCVD System 2010 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur de nouvelle génération conçu pour la croissance de couches minces et de nanostructures dans l'industrie des semi-conducteurs. Le Crius 31x2 utilise le MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) pour déposer des couches de matériaux spécialement conçus pour les applications semi-conductrices. Ce réacteur fonctionne à une longueur d'onde de 312nm et une température de substrat jusqu'à 1000 ° C Les multiples sources de composés Ge, Si et P sont vaporisées dans une chambre de réaction centrale et peuvent être contrôlées indépendamment. Cela permet de manipuler les couches de matériaux en hauteur, densité et épaisseur en fonction des spécifications de l'utilisateur. Le réacteur Crius 31x2 dispose également d'un équipement programmable de chauffage modulaire à cellules de quartz qui permet de chauffer les matériaux du substrat à la température spécifiée plus efficacement. Ce système permet de réduire le temps de chauffage de la chambre de réaction, ce qui permet de raccourcir les cycles de traitement et d'améliorer les rendements des procédés. De plus, l'unité de refroidissement et les ventilateurs à température contrôlée contribuent à maintenir la température de la chambre de réaction cohérente, minimisant les variations dans le processus de dépôt. Le Crius 31x2 est équipé d'une machine d'alimentation RF avancée et de rétroaction pour optimiser l'uniformité du plasma et la vitesse de dépôt. L'outil MOCVD basse pression dispose du stockage et de l'alimentation des réactifs et peut être programmé pour le flux continu ou pour des volumes allant jusqu'à 38,4 ml/min. Un logiciel moderne basé sur Windows est inclus avec le réacteur, permettant la surveillance, l'enregistrement des données et le contrôle en temps réel de plusieurs paramètres de processus. Le réacteur Crius 31x2 a une charge maximale de 31 substrats de 1 pouce et une chambre d'agrandissement pour accueillir de plus grands substrats. Ce réacteur a une consommation de puissance de 3kW, des dimensions de 500mm H x 610mm W x 1800mm L, et un poids de 350 kg. Le Crius 31x2 est un choix fiable, efficace et rentable pour la croissance de couches minces semi-conductrices et de nanostructures.
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