Occasion AIXTRON Crius 31x2 #293650409 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur procédé conçu pour des applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Il s'agit d'un plasma distant avec dépôt à double zone, spécialement conçu pour les processus de croissance MBE et VPE. En tant qu'équipement à double zone, AIXTRON CRIUS 31 X 2 permet un contrôle indépendant de la température des chambres de traitement principales et auxiliaires. La chambre principale est typiquement utilisée pour le MBE, permettant le traitement d'une variété de matériaux avec une excellente homogénéité de température même dans des conditions de haute pression. Cette uniformité de température est possible grâce à la conception uniforme de la chambre à chaud, qui comprend un insert triax-graphite pour une isolation thermique efficace. Cette conception minimise également les fuites de chaleur dans l'environnement, améliorant ainsi l'efficacité du système. La chambre auxiliaire est généralement utilisée pour des techniques de dépôt en phase vapeur telles que le VPE. Il présente une formation de plasma utilisant un couplage inductif à distance à une électrode interne, générant des plasmas très uniformes avec une large gamme de puissances plasmatiques, comparables à ceux des sources PECVD et ICP haut de gamme. La conception de la paroi froide de la chambre assure également une bonne isolation thermique, éliminant le gradient thermique dans la zone de dépôt. Ceci garantit un taux de dépôt élevé et une qualité de couche constante. Crius 31x2 est également extrêmement flexible, supportant une large gamme de substrats, plaquettes et supports de substrats. Sa chambre de chargement polyvalente permet un chauffage et un refroidissement optimisés du substrat, ainsi que le dépôt de matériaux de longueurs de diffusion et de densités de matériaux de substrat variables. Il dispose également de chargement aseptique et de déchargement, assurant un processus propre et sans contamination. Pour maximiser l'efficacité du procédé, CRIUS 31 X 2 est équipé d'une multitude de capteurs, dont des capteurs de température et un capteur optique d'émission. Ils permettent de surveiller les conditions thermiques et de contrôler avec précision les couches de dépôt, même lors de transitions thermiques ou compositionnelles rapides. Enfin, l'unité est également conçue pour la commodité de l'utilisateur. Sa machine intégrée de contrôle et de surveillance est intuitive et conviviale, permettant un fonctionnement facile, l'enregistrement des données et le diagnostic des outils. Cela garantit la pleine reproductibilité des procédés et des résultats de pointe dans la production.