Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9248204 à vendre en France
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ID: 9248204
Style Vintage: 2008
MOCVD System
CCS IC Reactor for deposition substrates
CSS-Chamber
With flip-top lid
SiC Coated graphite susceptor
(3) Zones tungsten heater
Temperature: 1200°C
Optical access: (6) Optical ports
Outer liner
Heat exchanger
Pyrometer: Temperature calibration
Power supply unit
EBARA A70W Dry vacuum pump
Dual input plenum shower head injector
With cross-flow water cooling
Glove box:
With inert gas flow
(3) Gloves on each side
Pressure control: Over pressure protection
Monitoring systems interface
Maintenance load lock
Gas purification
Circulation and regeneration unit
Sensors: Integrated H2 / O2 / Moisture / Temperature
Moisture level: 1 ppm
Oxygen level: 1 ppm
Vacuum wand
Vacuum system:
(2) Pressure sensors
Throttle valve
Vacuum valves
Check valves
Filter station
Gas blending unit:
Ventilated gas cabinet with active door locks
Gas blending and injection lines
Metal sealed digital mass flow controllers
Input lines: Particle filters
Hydride input lines: Manual valves
Hydrogen and nitrogen carrier gas manifold
Run / vent stack (Hydrides and (2) MOs)
Purge channels
Vacuum cleaner
With closed loop circulation and separate blower unit
Particle trap and double fine filter
Dynamic reactor height adjustment
In-recipe control of reactor height
Computer control system
CONTROL LOGIX Programmable Logic Controller (PLC)
Recipe execution
Recipe manager
Macro definition
Display and print out of data
Remote PC:
Desktop PC
TFT Monitor, 9"
Mouse
Keyboard
Safety system:
Hardwired safety system
Hydrogen detection
MO-G1 Standard metal organic channel:
(2) Cp2Mg/H2
TMAl/H2
N.N./H2
N.N./N2
TEGa/N2
Digital mass flow controller for carrier gas
Digital mass flow controller for pusher line
Pneumatic 4-way valve
Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control
Digital pressure controller for MO-cylinder
Pneumatic 5-way vent / Run valve
PLC Hardware and system
MO-G1-D Double standard metal organic channel: (2) TMIn
(2) Metal organic sources sharing thermobath
(2) Digital mass flow controllers for carrier gases
(2) Digital mass flow controllers for pusher line
(2) Pneumatic 4-way valves
Thermostated bath LAUDA RM6 air-cooled with precise temperature control
(2) Digital pressure controllers for MO-cylinder (one for each cylinder)
(2) AIXTRON Pneumatic 5-way vent / Run valves
PLC Hardware and safety system
MO-G2-D Double standard gas channel: (2) NH3
Manual valve
(2) Digital mass flow controllers for hydride gases
(2) Digital mass flow controllers for pusher line
(2) Pneumatic 3-way valve
(2) Pneumatic 5-way vent / Run valves
PLC Hardware and safety system
MO-G1 Plus MO-G3 sharing one bath: (2) TMGa
(2) Digital mass flow controller for carrier gases
(2) Digital mass flow controller for pusher line
Digital mass flow controller for dopant injection
(2) Pneumatic 4-way valve
Thermostated bath lauda RM6 air-cooled with precise temperature control
(2) Digital pressure controller
Pneumatic 5-way vent / Run manifold valve
PLC Hardware and safety system
MO-G5-10M Vacuum lines
MO-G6 Dummy line:
Used for balancing gas flow switching
Digital mass flow controller
Pneumatic 5-way vent / Run valve
PLC Hardware and safety system
N2/H2 Separation of MO stack:
(4) Pneumatic valves and safety system
(2) N2/H2 Mixture units for one run / Vent stack
Digital mass flow controller with valve and safety system
(2) MO-Differential run / Vent pressure balancing
Differential pressure sensor
X-More MFC and needle valve
PID Controller
PLC Hardware and safety system
Process control:
Laser interferometer
In-situ monitoring
Includes:
Susceptor top plate: SiC Coated
QUARTZ Susceptor support
Liner
Thermocouple assembly type C
Optical probe
Probe adapter
O-Ring
Engineers kit
(2) Valves (N2 H2)
Line heating
Susceptor: 2" x 31" x 2"
CT1000 Particole trap
Purification:
AERONEX CE-2500KF Purifier
For NH3 purification
Manual by-pass shut off valve
(2) Manual isolation valves
(2) AERONEX CE-2500KF Purifiers
For N2 and H2
(2) Moisture sensors (H2 N2)
MICHELL PURA Hygrometer
DP Measurement: -120°C
2008 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur épitaxié au carbure de silicium de nouvelle génération conçu pour des applications axées sur la recherche et le développement. C'est un équipement modulaire et hautement configurable qui offre une flexibilité de processus allant de l'épitaxie à basse température à la croissance à haute température, à des taux allant jusqu'à 500mm2 par heure. Avec la capacité de développer des couches de type n et p sur un large éventail de substrats, y compris le silicium, le saphir, le silicium sur isolant, le diamant et le SiC, c'est un outil idéal à haut débit pour le développement de l'électronique de nouvelle génération et des composants optoélectroniques. AIXTRON Crius 31x2 utilise une technologie d'épitaxie par faisceau moléculaire (MBE) et dispose d'un régulateur de débit massique programmable qui permet un débit et une composition de gaz précis. Le système est équipé de quatre canons à faisceau d'électrons et de onze positions porte-substrat pour la croissance du film à haut débit. Il comprend également une unité de pompage à vide intégrée avec des turbo-pompes in-situ et ex-situ pour des opérations rapides et à basse pression, ainsi qu'une plate-forme de température réglable pour un contrôle précis de la température. Les fonctionnalités du logiciel de contrôle de la machine permettent un script de recette convivial et une optimisation complète des paramètres du processus. Les optimisations de processus comprennent le ramassage automatisé de la température du substrat, la combinaison de différents débits de gaz et l'adaptation du taux de croissance. En outre, AIXTRON Crius 31x2 dispose d'une option d'accès à distance pour la surveillance et le contrôle de l'accès à distance. AIXTRON Crius 31x2 se distingue dans le domaine de la croissance du carbure de silicium par ses capacités avancées et ses performances fiables. Avec sa conception modulaire, le réacteur est très efficace et peut être adapté à tous les besoins de recherche spécifiques. Cet outil est idéal pour l'avancement et le test des dispositifs et composants semi-conducteurs. AIXTRON Crius 31x2 a déjà fait ses preuves en tant qu'outil puissant pour les chercheurs en électronique de puissance et en optoélectronique, et est un choix idéal pour les chercheurs à la recherche d'un réacteur épitaxié fiable et polyvalent.
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