Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9350512 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur conçu par AIXTRON GmbH, un fabricant allemand d'équipements spécialisés pour le traitement des semi-conducteurs. Le Crius 31x2 est un équipement d'épitaxie en phase vapeur métallique (MOVPE) de haute puissance utilisé pour produire des matériaux semi-conducteurs et optoélectroniques avancés. Il comporte des flux de gaz verticaux et horizontaux pour permettre le dépôt de substrats de grande surface. Le réacteur se caractérise par un débit élevé, de faibles gradients thermiques et de faibles dommages au substrat. Le Crius 31x2 possède deux réacteurs mixtes identiques, constitués chacun d'une chambre de croissance à quartz, de deux systèmes de distribution de gaz distincts et d'un porte-substrat à quartz. La chambre de croissance mesure 22cm de diamètre et 90cm de longueur et est capable de traiter jusqu'à deux substrats de 4 pouces ou trois substrats de 6 pouces de diamètre. La chambre de croissance est équipée d'un contrôleur de système numérique AIXTRON CDS500, d'un contrôleur de processus CDS600 avancé et d'un logiciel Vital-View3x permettant un contrôle précis des paramètres nécessaires à la croissance de MOVPE. AIXTRON Crius 31x2 fournit aux utilisateurs un dépôt à haut rendement de matériaux avancés à un débit significativement plus élevé que les autres systèmes MOVPE. Il est équipé d'une unité spéciale de distribution de gaz qui maintient des gradients thermiques extrêmement bas dans le réacteur, réduisant les dommages de surface et de substrat. AIXTRON Crius 31x2 a été utilisé avec succès pour la production de matériaux semi-conducteurs composés de haute qualité et de dispositifs optoélectroniques, y compris des LED, des lasers, des photodétecteurs et des cellules solaires. La machine a également été utilisée pour le dépôt de couches minces telles que des diélectriques, des métaux et des alliages. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur MOVPE avancé et fiable qui fournit d'excellentes performances pour la production de dispositifs optoélectroniques et d'autres matériaux avancés. La combinaison de hauts débits, de faibles gradients thermiques et de faibles dommages au substrat permet aux utilisateurs de produire des matériaux de haute qualité et performants.