Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9353178 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur métallique (MOCVD). C'est un outil largement utilisé pour la production industrielle de matériaux optoélectroniques de haute qualité, tels que les diodes électroluminescentes (LED) et les structures laser. Le Crius 31x2 est capable de déposer simultanément jusqu'à deux structures de matériaux III-V différentes, permettant un traitement monobloc d'hétérostructures multicouches complexes. Le réacteur comporte plusieurs composants distincts, dont la chambre de loadlock, la chambre de diffusion et la chambre de réaction. La chambre de loadlock est utilisée pour transférer des substrats, tels que des substrats GaAs, dans la chambre de diffusion. La chambre de diffusion est une enceinte servant à préchauffer progressivement les substrats avant de les transférer dans la chambre de réaction. La chambre de réaction est l'environnement de travail primaire des réacteurs. Il s'agit d'un tube réactionnel à quartz équipé d'un régulateur de température à deux zones, qui peut être ajusté pour deux procédés différents. Le Crius 31x2 est équipé de capacités de métrologie in situ, ce qui implique la capacité de mesurer l'épaisseur du film, les particules de poussière et d'autres paramètres pertinents de manière non destructive. Cela permet de personnaliser les processus pour des propriétés de matériaux spécifiques, ou d'assurer une production de masse efficace dans le temps. De plus, la nomenclature « 31x2 » du Crius fait référence au nombre d'Espace Réactif Indépendant (IRS) qu'il possède : avec deux IRS, le Crius peut déposer deux réactions distinctes simultanément. Le Crius 31x2 offre également à ses utilisateurs des résultats reproductibles fiables. Il offre des recettes hautement optimisées et automatisées pour une croissance rapide des matériaux cibles, contrôlée couche par couche. La chambre de traitement du Crius 31x2 est équipée d'un collecteur d'alimentation en gaz dédié et d'un générateur RF, ce qui permet une flexibilité accrue du débit de gaz et des conditions de traitement. Le réacteur offre également une excellente homogénéité de température, avec une plage de température de -60 ° C à 700 ° C Dans l'ensemble, AIXTRON Crius 31x2 est un excellent réacteur MOCVD fiable pour la production industrielle de composants optiques semi-conducteurs et laser. Il offre une vitesse et une précision inégalées pour le dépôt d'hétérostructures multicouches, ainsi qu'un contrôle automatisé robuste pour des résultats reproductibles et fiables.