Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9353179 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur avancé de dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) prêt à la production spécialement conçu pour la production de semi-conducteurs et d'optoélectroniques à haute performance. Il offre une flexibilité de traitement et un contrôle de processus supérieur dans un large éventail de domaines d'application tels que l'optoélectronique, la nanoélectronique, les écrans plats, les cellules solaires, les MEM et les diodes électroluminescentes (LED). Cet équipement offre une large gamme de caractéristiques conçues pour optimiser les performances du processus et permettre une rampe supérieure jusqu'à des taux de production de volume élevés. Le procédé PECVD dans le réacteur AIXTRON Crius 31x2 est basé sur la génération d'un plasma sous vide élevé. Le plasma est utilisé pour chauffer les gaz précurseurs qui réagissent ensuite ensemble et sont déposés sur un substrat. Ce procédé permet de déposer différents types de matériaux tels que des oxydes, des nitrures et des métaux à des températures allant de 25 à 500 ° C Le système est conçu avec une unité avancée de contrôle des processus en temps réel pour assurer des processus de dépôt reproductibles et fiables. Cela permet une conception optimisée des étapes de processus répétables et une surveillance précise des processus pour atteindre les caractéristiques de dépôt souhaitées. Le réacteur AIXTRON Crius 31x2 offre une flexibilité de procédé supérieure avec la capacité de traiter des substrats jusqu'à un diamètre de 350mm. La machine utilise une source optimisée de type cloche à haute fiabilité pouvant atteindre deux sources de gaz, conçue pour minimiser les besoins de stockage de gaz et réduire les temps d'arrêt pour les grands lots de production de plaquettes. AIXTRON Crius 31x2 est un outil de production facile à utiliser et nécessitant une maintenance minimale. L'actif offre également un ensemble complet de paramètres et des fonctionnalités avancées de contrôle des processus, y compris la rétroaction des processus en temps réel et les capacités d'enregistrement des données. AIXTRON Crius 31x2 a un modèle de sécurité intégré conçu pour minimiser l'exposition accidentelle à des matières potentiellement dangereuses. Cela comprend de multiples niveaux de sécurité, tels que de multiples emboîtements de sécurité, la surveillance des paramètres dangereux et la possibilité d'arrêter l'équipement en cas d'urgence. Le système présente également des niveaux de vibrations très faibles et une faible consommation électrique pour minimiser les coûts d'exploitation. En résumé, AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur PECVD haute performance et prêt à la production conçu pour répondre aux besoins des industries de l'optoélectronique et des semi-conducteurs. Il offre un contrôle de processus avancé et une large gamme de capacités de processus dans un ensemble fiable et sûr. AIXTRON Crius 31x2 est une solution rentable pour des séries de production à haut volume et offre une flexibilité maximale pour s'adapter à une large gamme de procédés de fabrication.