Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9353182 à vendre en France

AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur très avancé conçu pour le traitement avancé des couches minces. Il utilise une technologie de pointe pour fournir des performances avancées, un contrôle de processus supérieur, et les résultats de la plus haute qualité pour une variété d'applications. Le Crius 31x2 utilise les dernières technologies MOCVD (Metal Organics Chemical Vapor Deposition) et d'oxydation, permettant un contrôle inégalé de la vitesse de dépôt, du taux de croissance, de l'épaisseur des couches et de la concentration de dopants - pour des applications en couches minces. Cela en fait le réacteur idéal pour d'autres procédés avancés tels que PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition) et CVD (Chemical Vapor Deposition). Le réacteur AIXTRON Crius 31x2 est un système modulaire, ce qui signifie que des modules supplémentaires peuvent être achetés pour étendre la taille globale et le nombre de processus possibles. Il offre un grand nombre d'options de configuration, ainsi que plusieurs chambres contrôlables indépendamment pour la flexibilité et la répétabilité des processus. Grâce à sa vitesse de dépôt ultra-rapide, le Crius 31x2 est capable d'atteindre des vitesses de dépôt allant jusqu'à 28 nanomètres par seconde, et ses chambres de contrôle indépendantes offrent à la fois un contrôle de la température et de la pression. Le Crius 31x2 utilise également la technologie exclusive AIXTRON Plasma Enhanced Layer Mapping (PELM), permettant de placer des matériaux sur toute la surface de la plaquette avec un contrôle uniforme et précis du niveau des pixels. Cette technologie permet de déposer des caractéristiques de ratio d'aspect élevé, des technologies habilitantes telles que des transistors MOSFET avancés, des dispositifs à mémoire haute performance, et plus encore. La grande taille de la chambre et la vitesse de dépôt rapide du Crius 31x2 permettent également le dépôt de dispositifs avec des plaquettes de 8 pouces. Cela fait du Crius 31x2 le choix idéal pour le dépôt d'appareils électroniques à haut rendement et hautement fonctionnels tels que des LED, des cellules solaires et des panneaux d'affichage. En outre, le Crius 31x2 offre également une large gamme d'options accessoires, lui permettant de répondre aux besoins de n'importe quel utilisateur. Cela en fait un système incroyablement polyvalent qui peut être utilisé pour une grande variété d'applications. Dans l'ensemble, le réacteur AIXTRON Crius 31x2 est un système de traitement avancé, riche en fonctionnalités et fiable qui est idéal pour traiter un large éventail d'applications. Il offre un contrôle de processus supérieur, un dépôt uniforme, une grande taille de chambre, et une large gamme d'options pour la personnalisation - ce qui en fait le choix idéal pour la recherche et la production.