Occasion AIXTRON Crius 31x2" #9353185 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius 31x2"
ID: 9353185
Style Vintage: 2010
MOCVD System EBARA ESA70WD Pump A200 Scrubber 2010 vintage.
AIXTRON Crius 31x2 est un réacteur à dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de pointe, spécialement conçu pour être utilisé dans le développement de matériaux semi-conducteurs. Ce réacteur de pointe offre une combinaison exceptionnelle d'automatisation et de flexibilité qui est inégalée dans l'industrie. Le réacteur est basé sur la nouvelle méthode de dépôt cyclique (CDD), développée par AIXTRON, et présente une conception modulaire qui permet une large gamme de fonctionnalités. Ce réacteur CVD polyvalent contient un mélange complexe de réactifs, permettant des capacités de traitement avancées. Il peut être utilisé pour des applications telles que le dépôt de cellules photovoltaïques (PV), l'épitaxie du silicium et la production de transistors à couches minces. Le Crius 31x2 utilise un design et une structure de chambre uniques qui permettent un dépôt efficace et uniforme sur une variété de substrats. Sa chambre de dépôt haute performance est capable de résister à des températures allant jusqu'à 1100 ° C et à des pressions allant jusqu'à 100 mbar. Ce cadre robuste permet un excellent contrôle de la vitesse de dépôt du substrat et de l'uniformité de l'épaisseur. Pour plus de souplesse et de facilité d'utilisation, le réacteur dispose également d'un mécanisme automatisé de chargement du substrat. Ce mécanisme permet un chargement rapide et précis des substrats sans que l'opérateur ait à manipuler manuellement la chambre ou le substrat. Le réacteur comprend également une interface de collecte de données pour l'enregistrement des paramètres de processus et l'analyse. AIXTRON Crius 31x2 est un système sûr et fiable, avec un circuit de sécurité intégré qui empêche la surpression accidentelle et le fonctionnement à haute température. Il contient en outre un puissant module de contrôle du plasma pour permettre un contrôle maximum et la précision du traitement du plasma. En plus de ses caractéristiques techniques impressionnantes, AIXTRON Crius 31x2 est extrêmement facile à utiliser. Son fonctionnement convivial permet des vitesses de production ainsi qu'un fonctionnement à long terme avec une maintenance minimale. Avec sa combinaison optimale de caractéristiques haut de gamme et de performances supérieures, AIXTRON Crius 31x2 est sûr de répondre aux besoins de tout professionnel cherchant à créer des dispositifs semi-conducteurs extraordinaires.
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