Occasion AIXTRON Crius I #293586746 à vendre en France

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Fabricant
AIXTRON
Modèle
Crius I
ID: 293586746
MOCVD system, parts system Does not include reactor chamber.
AIXTRON Crius I est un réacteur épitaxié à haut débit conçu pour le dépôt de couches minces. Le réacteur est équipé d'une source de plasma inductivement couplée qui fournit un faisceau d'ions oxygène pour la gravure du substrat, et d'une source de plasma à résonance cyclotron électronique (ECR) qui produit des plasmas de haute densité pour la croissance de la couche. La conception de Crius I permet une plus grande fenêtre de processus et une meilleure uniformité des films minces. Le réacteur AIXTRON Crius I fournit aux utilisateurs un dépôt en couche mince haute performance pour une large gamme de substrats et de matériaux. La fenêtre de processus flexible et le débit élevé de Crius I permettent aux utilisateurs d'accueillir des substrats et des matériaux difficiles, tels que des cellules solaires, des LED et des semi-conducteurs. La source de plasma avancée et l'uniformité supérieure des matériaux d'AIXTRON Crius I offrent une qualité de film mince exceptionnelle. Crius I dispose d'un équipement de loadlock qui permet à l'utilisateur de charger et décharger rapidement les plaquettes. Les plaquettes sont exposées à leur environnement par un vide ultra-élevé et de l'azote, ce qui permet de maintenir un vide de haute qualité dans la chambre de procédé. De plus, les bobines segmentées de 5 pouces permettent un positionnement précis du plasma et des faisceaux de gravure, fournissant des films minces uniformes. En outre, AIXTRON Crius I est équipé d'un système de détection à haute résolution pour garantir des paramètres précis et une meilleure uniformité des couches. Cette unité avancée fournit aux utilisateurs des résultats fiables et reproductibles. De plus, Crius I dispose d'une machine d'autodiagnostic intégrée qui permet un dépannage rapide et permet à l'utilisateur de vérifier facilement l'état du réacteur. Dans l'ensemble, AIXTRON Crius I est un outil de dépôt de couches minces puissant et fiable. Avec sa source de plasma haute performance, une qualité de film mince supérieure et un atout de détection fiable, Crius I offre aux utilisateurs une fenêtre de processus flexible et une uniformité exceptionnelle.
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