Occasion AIXTRON Crius I #293661393 à vendre en France

AIXTRON Crius I est un réacteur de dépôt conçu pour le traitement à haut débit de couches minces. Il dispose d'une grande chambre de réaction qui peut traiter jusqu'à 35 cm ^ 2 plaquettes et offre une large plage de fonctionnement allant jusqu'à 1500 ° C Crius I comprend une gamme de fonctionnalités avancées qui permettent un contrôle précis du processus de dépôt. Il dispose d'un équipement efficace de débit de gaz et de basse pression de fond pour améliorer la qualité des dépôts. En outre, il dispose d'une unité de préparation de gaz embarquée pour faciliter l'utilisation de mélanges de gaz réactifs. Le système comprend également une unité de manutention automatique de plaquettes AutoFeedMC unique AIXTRON qui peut être utilisée pour transférer automatiquement jusqu'à vingt plaquettes dans la chambre sans ouvrir la porte du réacteur. La chambre de réaction d'AIXTRON Crius I est équipée d'un contrôleur d'éléments avancé qui assure un contrôle précis de la température, de la micro-pression, du débit de gaz et de la puissance RF. Il dispose également d'une conception très efficace, chauffée directement, revêtue de céramique, à paroi chaude susceptor. Ceci permet une réponse rapide de la paroi chaude pour une croissance efficace des dépôts à haute température. De plus, le Crius I comprend une tête de douche horizontale qui assure un dépôt uniforme sur toute la surface de la plaquette. AIXTRON Crius I est disponible dans plusieurs configurations qui varient dans la taille de la chambre, la température du processus et la manipulation du substrat. La machine a également été conçue pour être compatible avec une grande variété de matériaux. Cela le rend adapté à une large gamme de procédés de dépôt en couches minces, y compris le dépôt d'oxyde, de nitrure et de silicium-germanium. En outre, le puissant outil de contrôle et ses caractéristiques de sécurité intégrées garantissent un fonctionnement sûr et fiable et la répétabilité des processus. Dans l'ensemble, Crius I est un puissant réacteur de dépôt qui offre de nombreuses caractéristiques avancées et un contrôle puissant du processus de dépôt, ce qui en fait une solution idéale pour les applications de dépôt en couches minces à haut débit.