Occasion AIXTRON Crius I #293678425 à vendre en France
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ID: 293678425
Style Vintage: 2010
System
Hydride source: NH3-2, Cp2Mg-2, TMIn-2
Sources:
NH3-1
TMGa-1
TMAl-1
TEGa-1
TMGa-2
TMIn-1
SiH4-1
Cp2Mg-1
Reactor chamber included
2010 vintage.
AIXTRON Crius I est un réacteur de recherche et de production de matériaux nanostructurés conçu par AIXTRON. C'est un équipement de dépôt physique en phase vapeur (PVD) à base de plasma qui utilise du plasma à couplage inductif (ICP) pour contrôler finement la densité du plasma au niveau du substrat pour obtenir une adhérence et des propriétés de matériau optimales. Crius I a un design novateur et modulaire qui permet une flexibilité et une échelle accrues. Il est adapté à des applications allant du prototypage de produits à petite échelle à la production en grand volume de matériaux nanostructurés. Il dispose d'une architecture ouverte qui lui permet d'être mis à niveau et étendu avec des composants matériels supplémentaires. AIXTRON Crius I supporte également plusieurs canaux ICP avec jusqu'à 16 alimentations électriques réglables indépendamment. Il dispose également d'un système de surveillance et de contrôle avancé qui permet d'optimiser les paramètres du processus pour une précision et une qualité accrues. Crius I supporte une grande variété de matériaux nanostructurés, y compris des nanotubes, des films minces à base de nanoparticules et des mailles nanostructurées aux propriétés accordables. Avec ce réacteur, les matériaux nanotechnologiques peuvent être produits avec une grande précision, reproductibilité et efficacité. Les paramètres du procédé ont été conçus pour permettre la production d'une grande variété de matériaux nanostructurés avec un contrôle précis de la cristallinité et des caractéristiques du matériau. AIXTRON Crius I supporte également un large éventail de techniques de dépôt telles que l'évaporation, la pulvérisation et le dépôt par faisceau d'ions. Crius I est capable de produire une large gamme de matériaux nanostructurés haute performance avec des rendements très élevés. Son unité avancée de contrôle des précurseurs surveille avec précision le flux des précurseurs et l'ajuste au besoin. Cela permet de s'assurer que le processus de dépôt est cohérent et que le produit final possède les propriétés désirées. Le réacteur dispose également d'une machine de sécurité intégrée qui garantit que tous les processus sont sûrs et fiables. En résumé, AIXTRON Crius I est un réacteur PVD polyvalent et puissant pour la recherche et la production de nanomatériaux. Il offre un contrôle précis, une surveillance avancée et des rendements élevés pour une gamme complète de nanomatériaux. Sa conception et ses caractéristiques innovantes en font un excellent outil pour tout laboratoire ou environnement de production.
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